在當(dāng)今工業(yè)界,，材料清洗是確保產(chǎn)品質(zhì)量和性能的關(guān)鍵一環(huán),。雖然傳統(tǒng)的溶劑清洗一度在污染物處理方面表現(xiàn)出色，但卻常常難逃環(huán)境負(fù)擔(dān)和基材腐蝕等問(wèn)題,。近年來(lái),，等離子清洗作為一項(xiàng)前沿技術(shù)，正日益迅猛地受到矚目,。這項(xiàng)技術(shù)不僅消除了使用有害濕化學(xué)方法的需求,，還能夠高效清除那些狹窄隙縫和隱蔽腔體中的污染物。
ATTO等離子清洗器,，一款低成本,、高性能的低壓等離子設(shè)備，擁有10.5升的清洗容量,，適用于小批量生產(chǎn),、分析、醫(yī)療技術(shù),、研究開發(fā),、考古和紡織技術(shù)等領(lǐng)域。ATTO設(shè)備提供手動(dòng)操作或基本PC控制系統(tǒng),，為您帶來(lái)靈活性和便捷性,。
規(guī)格亮點(diǎn)：
? 設(shè)備尺寸：寬425 mm、高275 mm,、深450 mm
? 真空腔室：∅ 211 mm,，長(zhǎng)300 mm，采用玻璃（硼硅玻璃）材質(zhì)
? 腔室容積：約10.5升
? 氣體供給：2個(gè)針型閥控制的氣體通道,，配備MFC
? 發(fā)生器：40 kHz/200 W,、13.56 MHz/300 W
? 真空泵：最小抽吸性能3 m3/h
? 部件支架：1個(gè)產(chǎn)品支架
? 控制系統(tǒng)：手動(dòng)或Basic PC控制系統(tǒng)（Microsoft Windows CE）
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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