等離子去膠機是在(RIE)反應(yīng)離子刻蝕機的基礎(chǔ)上簡化改進而來,，為小型等離子去膠機,，具有體積小,，性能優(yōu)良、用途多,、工藝速率高,、均勻性及重復(fù)性好、價格低,、使用方便等特點,。是各電子器件企業(yè)及科研單位、大專院校的機型,。
等離子去膠機主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的,。就反應(yīng)機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài),；氣相物質(zhì)被吸附在固體表面,；被吸附基團與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子解析形成氣相,；反應(yīng)殘余物脫離表面,。
等離子去膠機的工作原理：
在真空狀態(tài)下，使得氣體產(chǎn)生活性等離子體,，以此,，在物理、化學(xué)雙重作用下對清洗的部件如砷化鎵,、氮化鎵等進行表面的轟擊,，將表面要去掉的物質(zhì)變成了離子或者氣體，然后利用真空泵將這些清洗出來的物質(zhì)抽離出去,，從而達到清洗目的,。等離子去膠的好壞直接決定了成品率的高低，等離子去膠工藝主要是半導(dǎo)體單片掃膠,、掃底膜工藝,、元器件封裝前、芯片制造等行業(yè)中,。
等離子體又叫做電漿,，是由部分電子被剝奪后的原子及原子被電離后產(chǎn)生的正負電子組成的離子化氣體狀物質(zhì)，它廣泛存在于宇宙中,，常被視為是除去固,、液、氣外,，物質(zhì)存在的第四態(tài),。等離子體是一種很好的導(dǎo)電體，利用經(jīng)過巧妙設(shè)計的磁場可以捕捉,、移動和加速等離子體,。等離子體物理的發(fā)展為材料,、能源、信息,、環(huán)境空間,，空間物理，地球物理等科學(xué)的進一步發(fā)展提新的技術(shù)和工藝,。
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