EVOCHEM的新超疏水產(chǎn)品線（EVOCHEM ETC-TOP，EVOCHEM ETC-PRO，EVOCHEM ETC-PRO UV+ & EVOCHEM ETC-PRO AB+）提供了的工藝和薄膜性能。我們開發(fā)了德國EVOCHEM薄膜產(chǎn)品-疏水材料和濺射靶材,，可以減少污垢和指紋在表面上的粘附，同時提高耐磨性。

 德國EVOCHEM薄膜產(chǎn)品-疏水材料和濺射靶材

 

一,、EVOCHEM 公司

EVOCHEM Advanced Materials GmbH 自豪地推出其新的產(chǎn)品組合 - 涵蓋純金屬和超純金屬，旨在滿足行業(yè)的研發(fā)需求,。

產(chǎn)品組合涵蓋各種蒸發(fā)材料和配件,、高效濺射靶材、晶體監(jiān)測等,。

EVOCHEM Advanced Materials 為薄膜應用提供大且全面的材料系列,，包括光學和配件、磨損和裝飾涂層,、微電子和半導體,、光學數(shù)據(jù)存儲、顯示器和太陽能電池,。

濺射靶材,，包括濺射靶材鍵合和回收

蒸發(fā)材料， 提供 60 多種蒸發(fā)材料

PVD 消耗品,， 坩堝,、舟和細絲

在 6MHz 和 5MHz 下監(jiān)測 Au、Ag ,，合金的晶體

蒸發(fā)盤管,，為您的金屬化項目

EVOCHEM 全面的產(chǎn)品組合為您的個性化應用提供解決方案,。高純度蒸發(fā)材料有助于實現(xiàn)您想要的涂層特性;其優(yōu)化的熔煉性能提高了產(chǎn)量。低噴吐特性允許為關鍵應用提供低缺陷涂層,。

我們提供用于濺射設備大且全面的材料系列,，提供流行的幾何形狀（和尺寸），包括環(huán)形,、S 型槍和圓形,、矩形、三角形和平面目標,。

EVOCHEM 還提供用于電子束蒸發(fā)器,、離子源和熱蒸發(fā)器的組件。產(chǎn)品范圍包括坩堝,、舟和細絲,，這些坩堝、舟和細絲由與蒸發(fā)材料和濺射靶材相同的優(yōu)質(zhì)材料制成,。

EVOCHEM 的純金屬和超純金屬新產(chǎn)品組合幾乎包括從鋁到鋯的金屬,。這些金屬的數(shù)量和形式范圍很廣，包括粉末,、線材,、箔、片材,、棒材,、管材和靶材。提供的純度范圍為 99.00% - 99.999999%,。

 

二,、EVOCHEM 薄膜產(chǎn)品

1、 疏水材料-新一代防水防油材料

EVOCHEM的新超疏水產(chǎn)品線（EVOCHEM ETC-TOP,，EVOCHEM ETC-PRO,，EVOCHEM ETC-PRO UV+ & EVOCHEM ETC-PRO AB+）提供了的工藝和薄膜性能。我們開發(fā)了復雜的材料,，可以減少污垢和指紋在表面上的粘附,，同時提高耐磨性。

新的超疏水片劑可以從電阻加熱的船上沉積,，也可以通過使用面涂層襯墊的電子束沉積,。

主要產(chǎn)品特點：

  防指紋和防污

  超疏水–疏油–超光滑表面

  適用于幾乎全部基材

EVOCHEM ETC 將表面能降至低，因此具有易于清潔的特性,。此外,，涂層（例如 AR 層）和基材本身受到非常光滑和耐磨的納米層的保護。

 

ETC-產(chǎn)品范圍

 德國EVOCHEM薄膜產(chǎn)品-疏水材料和濺射靶材產(chǎn)品系列包括ETC-TOP,、ETC-PRO,、ETC-PRO UV+,、ETC-PRO AB+。

EVOCHEM ETC-TOP 代表了我們 ETC 產(chǎn)品系列的入門級質(zhì)量,。高耐磨性和良好的易清潔性能使 ETC-TOP 產(chǎn)品系列成為非常好的疏水表面涂層,。

 

EVOCHEM ETC-PRO 是眼科行業(yè)的專用產(chǎn)品線。高耐磨性和易于清潔的表面使其成為眼科公司的best選擇,。我們強大的品牌也將成為您和您的客戶的關鍵差異化因素,。

EVOCHEM ETC-PRO UV+

EVOCHEM ETC-PRO UV+ 是我們的納米涂層產(chǎn)品線，具有更高的耐氣候要求,。ETC-PRO UV+ 顯著提高了紫外線照射下的耐污性和耐化學性 - 同時保持高度光滑的表面,。即使在條件下（600 小時 QUV 和 990 小時氙弧燈），PRO UV+ 涂層物質(zhì)的接觸角也能保持在 >100°,。

EVOCHEM ETC-PRO AB+

EVOCHEM ETC-PRO Abrasion+ 是我們的疏水應用,，在整個產(chǎn)品線中具有高的耐用性和光滑性。專用于滿足對優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品和基材的高要求,。ETC-PRO AB+ 涂層基材可實現(xiàn) >116°的水接觸角,。ETC-PRO AB+ 是具有卓性能要求的高納米涂層的即用型應用,。

EVOCHEM ETC 片劑非常易于處理以進行沉積,。可以從各種電阻加熱舟（由 Mo 或 Ta 制成）以及間接電子束加熱進行沉積,。

EVOCHEM 片劑和載體的設計和制造均以實現(xiàn)性能,。物理特性允許穩(wěn)定和受控的涂層工藝，從而實現(xiàn)每次涂層運行的大產(chǎn)量,。

EVOCHEM ETC 可以從電阻加熱的舟中蒸發(fā),，也可以通過間接電子束加熱蒸發(fā)。蒸發(fā)溫度范圍為 400 - 800°C（建議 600°C）,。將 EVOCHEM ETC 涂布到氧化膜上可獲得優(yōu)良效果,，尤其是在 SiO2 薄膜（AR 涂層的頂層）上。

應用： EVOCHEM ETC-TOP,、EVOCHEM ETC-PRO,、EVOCHEM ETC-PRO UV+ 和 EVOCHEM ETC-Pro AB+ 可作為即用型片劑提供，用于熱氣相沉積和電子束工藝,，使用面涂層襯墊,。或者,，涂層可以通過濕化學工藝（浸漬,、噴涂、鼓注）完成 - ETC-LIQUID 和 ETC-METAL-LIQUID,。

作用方式：ETC 的一端與其分子鏈的一端形成共價,、高度穩(wěn)定的氧化物表面（例如 SiO2）,，而另一端（全氟化）則遠離表面對齊。因此,，ETC 將表面能降至低,，因此具有易于清潔的特性。此外,，涂層（例如 AR 層）和基材本身受到非常光滑和耐磨的納米層的保護,。EVOCHEM 的新產(chǎn)品組合已經(jīng)符合最新的立法要求，其中產(chǎn)品或整個生產(chǎn)過程中均不存在全氟辛烷磺酸 （PFOS） 和全氟辛酸 （PFOA）,。

性能： 該材料通過氣相沉積施加在 SiO2 層上,，提供 117°的水接觸角。在整個測試過程中,，即使在 1 kg 壓力下循環(huán) 8000 次后,，接觸角也不會低于 105°。ETC-LIQUID - 為手機和觸摸顯示器開發(fā) - 已顯示出更高的耐磨性,。盡管表面粗糙度降低了約 85%,，但鏡片的成型可以很容易地進行，而無需對生產(chǎn)過程進行任何改變,。研磨后,，多項測試表明涂層松弛，表面沒有留下“鬼痕",。

綠色生產(chǎn)：藥丸以泡罩包裝提供,，每單位 12 片。每個包裝的保質(zhì)期為 6 個月,。此外,，我們的載體片劑可以重復使用大約 10 倍，從而進一步減少浪費和成本,。

EVOCHEM 在制造過程中不使用或故意添加 PFOA,、其鹽類和 PFOA 相關化合物。因此,，EVOCHEM 認為此類物質(zhì)未包含在其產(chǎn)品中,。EVOCHEM 有一個系統(tǒng)，可以定期檢查其產(chǎn)品代表性樣品中 PFOA,、其鹽類和 PFOA 相關化合物的含量,，并可以確認這些樣品符合修訂后的 （EU） No 2020/784 法規(guī)。

2,、濺射靶材

們提供大且全面的濺射靶材系列,。提供流行的幾何形狀（和尺寸），包括環(huán)形、S 型槍和圓形,、矩形,、三角形和平面目標。

大多數(shù)濺射靶材可以制造成各種形狀和尺寸,。單件結(jié)構(gòu)的尺寸存在一些技術(shù)限制,。在這種情況下，可以產(chǎn)生多段目標,，其中各個段通過對接或斜面接頭連接在一起,。

濺射靶材有多種成分、各種純度水平可供選擇,，使我們的客戶能夠?qū)胁呐c其特定要求相匹配,。

與電子束或熱蒸發(fā)相比，濺射沉積具有可重復性和更簡單的過程自動化等優(yōu)點,。已經(jīng)開發(fā)了濺射技術(shù)的多種變體,。通過氧化/氮化濺射金屬離子，可以從金屬濺射靶材上沉積光學薄膜,，以沉積所需成分的氧化物或氮化物薄膜層,。

直流磁控濺射是用于導電金屬靶材的技術(shù)。氧化物（絕緣）濺射靶材可以通過射頻濺射進行濺射,，但速率較低,。幾乎任何材料合金、混合物,、純金屬,、氧化物,、氮化物,、硼化物、碳化物都可以作為濺射靶材提供,。

EVOCHEM 提供各種高純度金屬濺射靶材– 純度高達 99.9999%,，包括鋁，銻,，硼,，碳，銪等,，可根據(jù)客戶需求提供,。

EVOCHEM 的產(chǎn)品包含各種氧化物濺射靶材，針對濺射工藝的要求進行了優(yōu)化,。我們的氧化物濺射靶材為光學鍍膜工程師提供了更好的產(chǎn)量,、工藝穩(wěn)定性和更大的設計自由度。

EVOCHEM 提供廣泛的化合物和混合物 – 適合高、中,、低折射率薄膜的應用和性能,。

物理氣相沉積工藝 （PVD 工藝） 是一種沉積工藝，其中蒸發(fā)材料以原子的形式從固體源蒸發(fā),，并以蒸汽的形式通過真空或低壓（或等離子體）環(huán)境傳輸?shù)秸羝奂幕摹?/p>

PVD 工藝可用于使用反應沉積工藝沉積元素（蒸發(fā)材料）和合金的薄膜,。真空沉積是一種 PVD 工藝，其中來自熱汽化源的蒸發(fā)材料到達基板,，與氣體分子幾乎沒有碰撞,。真空沉積用于形成光學干涉涂層、鏡面涂層,、裝飾涂層,、導電薄膜（也稱為 TCO 薄膜、ITO）,、耐磨涂層和防腐蝕涂層,。

3、高品質(zhì)的蒸發(fā)材料

EVOCHEM 全面的蒸發(fā)材料產(chǎn)品組合為您的個性化應用提供解決方案,。高純度蒸發(fā)材料有助于實現(xiàn)您想要的涂層特性;其優(yōu)化的熔煉性能提高了產(chǎn)量,。低噴吐特性允許為關鍵應用提供低缺陷涂層。

獨生產(chǎn)能力使我們能夠定制制造任何所需的形狀和純度,，數(shù)量從幾克到幾百公斤不等,。使用專有涂層機進行持續(xù)的質(zhì)量測試和控制，可實現(xiàn)生產(chǎn)過程,。

我們的蒸發(fā)材料代表了當今好的涂層材料,，這些材料經(jīng)過加工或?qū)ｉT開發(fā)，以滿足科學實驗,、產(chǎn)品和工藝開發(fā)或全面生產(chǎn)的苛刻要求,。

蒸發(fā)材料均隨附與所提供批號相關的相應材料數(shù)據(jù)表 （MSDS）、RoHS 證書和分析證書 （COA）,。

我們的產(chǎn)品范圍包括 60 多種蒸發(fā)材料,，包括混合物和物質(zhì)，以及氟化物,、氧化物,、硫化物和金屬，以顆粒,、片劑或圓盤形式提供,。

EVOCHEM還提供PVD 耗材等。