主要特點(diǎn)

•    采用氣體作為清洗介質(zhì),，避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。
•    可短時(shí)間內(nèi)*清洗掉有機(jī)污染物,。
•    清洗程度可達(dá)到分子級,。
•    可在特定條件下根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。
•    清洗過程中的輝光放電可對某些特殊用途的材料加強(qiáng)粘附性,、相容性和浸潤性,，并可消毒和殺菌。
•    樣品臺(tái)可選配加熱功能,，可加負(fù)偏壓,，用以實(shí)現(xiàn)離子蝕刻。
•    廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué),、電子學(xué),、材料科學(xué)、生命科學(xué),、高分子科學(xué),、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域,。

  參數(shù)

•    電壓：AC220V  10A
•    消耗功率：<500W（包括真空泵）
•    RF電源：輸出功率100W,，輸出頻率13.56MHz
•    腔體：Φ190mm×98mm
  
•    石英管：Φ180mm×55mm，壁厚7mm
•    內(nèi)腔：Φ165mm×55mm
•    清洗電極：Φ120mm
•    樣品臺(tái)：Φ150mm,，有效尺寸Φ140mm
•    樣品臺(tái)與電極間距：15mm-50mm可調(diào)
•    抽氣管：Φ12mm
•    極限真空度：0.1Pa
•    工作真空度：60Pa-500Pa
•    氣路數(shù)量：2路（選裝）
•    流量控制器數(shù)量：1,、2
•    流量顯示儀：2通道
•    氣路接口：Φ6mm
•    加熱樣品臺(tái)：Φ140mm，加熱樣品溫度RT-600℃±1℃（選裝）
•    冷卻水壓力：0.2KPa-0.4KPa
•    工作環(huán)境：溫度5℃-35℃,，濕度<80%（相對濕度）不結(jié)露,，海拔高度0-2000m

  產(chǎn)品規(guī)格

• 　尺寸：245mm×235mm×460mm（不含真空泵）
•   重量：20kg（不含真空泵）

  可選配置

•    加熱樣品臺(tái)
•    流量控制器（量程10、50,、100,，多可增加2個(gè)通道）