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鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室,、真空排氣系統(tǒng),、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源,、樣品加熱控溫,、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成,。適用于制備金屬單質(zhì)薄膜,、半導體薄膜、氧化物薄膜,、有機薄膜等,，可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作,，也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗工作,，廣泛應用于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池,、OLED等研究領域,。鈣鈦礦鍍膜機工作過程中樣品位于真空室上方，蒸發(fā)源位于真空室下方,，向上蒸發(fā)鍍膜,，且蒸發(fā)源帶有擋板裝置，防止蒸發(fā)源被污染,。
1,、樣品位于真空室上方，蒸發(fā)源位于真空室下方,，向上蒸發(fā)鍍膜,，且蒸發(fā)源帶有擋板裝置。
2,、設有烘烤加熱功能,，可在鍍膜過程中加熱樣品，最高烘烤加熱溫度為180℃,。
3,、設有斷水、斷電連鎖保護報警裝置及防誤操作保護報警裝置,。
| 產(chǎn)品名稱 | 鈣鈦礦鍍膜機 | |
| 主要參數(shù) | 1,、鍍膜室：不銹鋼材料，采用方形前后開門結(jié)構(gòu),，內(nèi)帶有防污板,，腔室尺寸約為600mm×450mm×450mm 2、真空排氣系統(tǒng)：采用分子泵+機械泵系統(tǒng) 3,、真空度：鍍膜室極限真空≤6×10-4Pa 4,、系統(tǒng)漏率：≤1×10-7Pa 5、蒸發(fā)源：安裝在真空室的下底上,； 有機蒸發(fā)源4個,、容積5ml，2臺蒸發(fā)電源,，可測溫,、控溫，加熱溫度 400℃,，功率0.5KW,； 無機蒸發(fā)源4套、容積5ml,，2臺蒸發(fā)電源,，加熱電流300A,，功率3.2KW； 蒸發(fā)源擋板采用自動磁力控制方式控制其開啟 6,、樣品架：安裝在真空室的上蓋上,，可放置?120mm的樣品、載玻片,，旋轉(zhuǎn)速度0-30rpm 7,、加熱溫度：RT-180℃,，測溫,、控溫 8、膜厚控制儀：石英晶振膜厚控制儀,，膜厚測量范圍0-999999? | |
