20世紀(jì)60年代以后，CVD法不僅應(yīng)用于宇航工業(yè)的特殊復(fù)合材料,、原子反應(yīng)堆材料,、刀具、耐熱耐腐蝕涂層等領(lǐng)域,，還被應(yīng)用于半導(dǎo)體工業(yè)領(lǐng)域,，雖然比較晚，但今天作為大規(guī)模集成電路技術(shù)及鐵電材料,、絕緣材料,、磁性材料的薄膜制備技術(shù)，都是*的,。CVD法制備薄膜材料是近年來半導(dǎo)體,、大規(guī)模集成電路應(yīng)用較成功的一種工藝方法，主要用于硅,、砷化鎵材料的外延生長,、金屬薄膜材料、表面絕緣層,、硬化層等,，用于一些如氧化物,、碳化物、金剛石和類金剛石等功能薄膜和超硬薄膜的沉積,，也用于粉末,、塊狀材料、纖維等的合成,，并成為電子,、機(jī)械等許多工業(yè)領(lǐng)域重要的材料合成方法。

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