當(dāng)前位置:上海添時(shí)科學(xué)儀器有限公司>>技術(shù)文章>>單晶硅生長爐的原理簡介
單晶硅生長爐的原理簡介
首先,,把高純度的多晶硅原料放入高純石英坩堝,通過石墨加熱器產(chǎn)生的高溫將其熔化,;然后,,對熔化的硅液稍做降溫,使之產(chǎn)生一定的過冷度,,再用一根固定在籽晶軸上的硅單晶體(稱作籽晶)插入熔體表面,,待籽晶與熔體熔和后,慢慢向上拉籽晶,,晶體便會(huì)在籽晶下端生長,;接著,控制籽晶生長出一段長為100mm左右,、直徑為3~5mm的*,,用于消除高溫溶液對籽晶的強(qiáng)烈熱沖擊而產(chǎn)生的原子排列的位錯(cuò),這個(gè)過程就是引晶,;隨后,,放大晶體直徑到工藝要求的大小,一般為75~300mm,這個(gè)過程稱為放肩,;接著,,突然提高拉速進(jìn)行轉(zhuǎn)肩操作,使肩部近似直角,;然后,,進(jìn)入等徑工藝,通過控制熱場溫度和晶體提升速度,,生長出一定直徑規(guī)格大小的單晶柱體,;最后,待大部分硅溶液都已經(jīng)完成結(jié)晶時(shí),,再將晶體逐漸縮小而形成一個(gè)尾形錐體,,稱為收尾工藝。這樣一個(gè)單晶拉制過程就基本完成,,進(jìn)行一定的保溫冷卻后就可以取出,。
直拉法,也叫切克勞斯基(J.Czochralski)方法,。此法早在1917年由切克勞斯基建立的一種晶體生長方法,,用直拉法生長單晶的設(shè)備和工藝比較簡單,容易實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制,,生產(chǎn)效率高,,易于制備大直徑單晶,容易控制單晶中雜質(zhì)濃度,,可以制備低電阻率單晶,。據(jù)統(tǒng)計(jì),世界上硅單晶的產(chǎn)量中70%~80%是用直拉法生產(chǎn)的,。