在我們實際研磨拋光過程中,，研磨拋光主要講的是化學(xué)機(jī)械拋光（CMP: Chemical Mechanical Polishing）。CMP 是化學(xué)的和機(jī)械的綜合作用,，在一定壓力及拋光漿料存在下,，在拋光液中的腐蝕介質(zhì)作用下工件表面形成一層軟化層，拋光液中的磨粒對工件上的軟化層進(jìn)行磨削,，因而在被研磨的工件表面形成光潔表面,。

拋光液中的腐蝕介質(zhì)與被拋光表面材料發(fā)生了化學(xué)反應(yīng)，生成很薄的剪切強度很低的化學(xué)反應(yīng)膜,，反應(yīng)膜在磨粒磨削作用下被去處，從而露出新的表面，接著又繼續(xù)反應(yīng)生成新的反應(yīng)膜,，如此周而復(fù)始的進(jìn)行,，使表面逐漸被拋光修平,實現(xiàn)拋光的目的。

UNIPOL-1203化學(xué)機(jī)械磨拋機(jī),，適用于CMP平坦化和平滑化工藝技術(shù),，整機(jī)研磨部分采用防腐材料，耐化學(xué)腐蝕,，配置自動滴料器和精密磨拋控制儀,，全自動觸摸屏面板，從加工性能和速度上同時滿足晶圓等面型加工的需求,。 

主要特點：
1,、超平不銹鋼拋光盤（平面度為每25mm×25mm小于0.0025mm）。
2,、超精旋轉(zhuǎn)軸（托盤端跳小于0.01mm）,。
3、設(shè)有兩個加工工位,，可分別進(jìn)行控制,。
4、配有全自動控制觸摸屏面板,，可設(shè)置主軸轉(zhuǎn)速,、擺臂速度、磨拋時間,。
5,、配置自動滴料器，流量速率可視化調(diào)整,，自動研磨和拋光,。
6、配置GPC-100A精密磨拋控制儀,，可調(diào)節(jié)壓力,，修整面型，使磨拋更加方便快捷,。
7,、研磨部分采用防腐材料，耐化學(xué)腐蝕,。