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CVD化學(xué)氣相沉積裝置
【產(chǎn)品簡介】
【詳細說明】
1、升華室主要包括有不銹鋼容器,,不銹鋼高溫閥,、壓力表、電熱合金絲發(fā)熱體,、質(zhì)子流量計,、熱電偶、溫控裝置和保溫系統(tǒng),。主要用于對前驅(qū)體的加熱升華和調(diào)控通入反應(yīng)室的氣體流量, 控溫溫度可以在100-700℃之間自由設(shè)定,,由K分度號熱電偶+精密數(shù)顯程序控溫儀實現(xiàn)升華室溫度的自動程序升降,控溫精度:±1℃,,升華室配置數(shù)量為2個,。
2、反應(yīng)室主要包括不銹鋼容器,、壓力表,、質(zhì)子流量計、電熱合金絲發(fā)熱體,、熱電偶,、溫控系統(tǒng)、真空系統(tǒng),、保溫系統(tǒng),、載物臺??販販囟瓤梢栽?00-900℃之間自由設(shè)定,,由K分度號熱電偶+精密數(shù)顯程序控溫儀實現(xiàn)反應(yīng)室溫度的自動程序升降,控溫精度:±1℃,,反應(yīng)室配置數(shù)量為1個,。
3、氣路系統(tǒng)采用∮6×1mm,,316L材質(zhì)不銹鋼管實現(xiàn)氣體的運輸,、氣體流量的精確控制、減壓閥的準(zhǔn)確快速切換以及廢氣的處理,。在氣體運輸過程中,,需要對管道進行加熱保溫處理,,防止混合氣體在運輸過程中發(fā)生冷凝,加熱系統(tǒng)由K分度號熱電偶+智能數(shù)顯控溫儀+電熱合金絲發(fā)熱體實現(xiàn)氣路管道的溫度控制,,控溫精度:±1℃,。
4、真空系統(tǒng)主要用于控制反應(yīng)室內(nèi)壓強,,保證化學(xué)氣相沉積反應(yīng)能在預(yù)定的壓強下進行實驗,,真空度:10Pa。
CVD化學(xué)氣相沉積
化學(xué)氣相沉積反應(yīng)裝置
CVD管式爐