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產(chǎn)品簡介:
低溫冷卻液循環(huán)泵,,是采取機(jī)械形式制冷的低溫液體循環(huán)設(shè)備,。具有提供低溫液體,、低溫水浴的作用,。結(jié)合旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器、真空冷凍干燥箱,、循環(huán)水式多用真空泵,、磁力攪拌器等儀器,進(jìn)行多功能低溫下的化學(xué)反應(yīng)作業(yè)及藥物儲存,。
低溫冷卻液循環(huán)泵恒流,、恒壓,循環(huán)液可滿足電子顯微鏡,、電子探針,、超高真空濺射儀、X光機(jī),、激光器,、加速器等貴重儀器設(shè)備的降溫需要。對于高純度金屬,、稀有物質(zhì)提純,、環(huán)境實(shí)驗(yàn)及磁控濺射、真空鍍膜等大型設(shè)備,,可提供滿足對溫度,、水質(zhì)純凈雙重要求的冷卻水。該設(shè)備特別適合于需要維持低溫,、常溫條件下工作的化學(xué),、生物、物理實(shí)驗(yàn)室,,是化學(xué)工業(yè),、食品工業(yè),、冶金工業(yè)、大專院校,、科研、遺傳工程,、高分子工程等實(shí)驗(yàn)室的*設(shè)備,。
技術(shù)特點(diǎn):
1. 風(fēng)冷式(進(jìn)口)全封閉壓縮機(jī)組,質(zhì)量可靠,;
2. 制冷機(jī)組繼電器,,保護(hù)器,電容等均為高品質(zhì)器件,,質(zhì)量保證,;
3. 數(shù)顯溫度控制,操作簡單,,醒目,;
4. 可與多種儀器相配套(旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器、發(fā)酵罐,、化學(xué)反應(yīng)釜,、冷凍干燥設(shè)備、生物制藥反應(yīng)釜等),;
5. 制冷量大,,制冷速度快,極大地提高了工作效率,;
6. 具有在水源缺乏,,水質(zhì)、水壓,、水溫不佳的環(huán)境及高溫工作條件下,,可有效保護(hù)各類精密設(shè)備、儀器正常使用,;
7. 本機(jī)循環(huán)泵的流量可調(diào)亦可定制,,極大滿足不同用戶的實(shí)際需要;
8. 本機(jī)所有型號均可根據(jù)用戶要求在低溫與制冷量,,低溫與容器量之間合理搭配,。
低溫不凍液配比
A乙二醇水溶液:乙二醇/水 55/45 (-30℃)、70/30 (-40℃)
B丙三醇水溶液:丙三醇/水 70/30 (-30℃)使用中需經(jīng)常檢查低溫不凍液的密度使其滿足如下要求:1.乙二醇水溶液:P20=1079㎏/m3 (-30℃)(-40℃)2.丙三醇水溶液:P20=1182.6㎏/m3 (-30℃)不凍液用水代替時(shí),,其zui低溫度必須在0℃以上,。
循環(huán)水恒溫的應(yīng)用領(lǐng)域:
生化領(lǐng)域:旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、阿貝折光儀,、旋光儀,、原子吸收,、ICP-MS 、ICP,、核磁共振,、CCD、生物發(fā)酵罐,、化學(xué)反應(yīng)器(合成器)等,。材料領(lǐng)域:電鏡、X射線衍射,、X熒光,、真空濺射電鍍、真空鍍膜機(jī),、ICP刻蝕,、各種半導(dǎo)體設(shè)備、疲勞試驗(yàn)機(jī),、化學(xué)沉積系統(tǒng),、原子沉積系統(tǒng)等。醫(yī)療領(lǐng)域:超導(dǎo)磁共振,、直線加速器,、CT、低磁場核磁共振,、X光機(jī),、微波治療機(jī)、冷帽,、降溫毯等等,。物化領(lǐng)域:激光器、磁場,、各種分子泵,、擴(kuò)散泵、離子泵以及包括材料領(lǐng)域,。使用的各種需水冷設(shè)備,。
冷卻水選型相關(guān):
通常,制冷能力在1000W以下機(jī)型小型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛運(yùn)用小功率激光器,、平行蒸發(fā)儀,、平行定量濃縮儀、平行反應(yīng)器,、蒸餾儀等實(shí)驗(yàn)室冷凝裝置等,。制冷能力在6000W以下中型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛應(yīng)用于AAS、ICP、ICP-MS,、電鏡等分析儀器行業(yè),,旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、索氏提取,、固液萃取儀,、凱氏定氮儀等實(shí)驗(yàn)室設(shè)備,激光打標(biāo)機(jī),、激光切割機(jī)等激光儀器及機(jī)床行業(yè),。制冷能力在10KW以上大型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛應(yīng)用于X-衍射儀、磁質(zhì)譜儀,、疲勞試驗(yàn)機(jī)、真空鍍膜機(jī),、塑料成形設(shè)備,、激光切割機(jī)、X-熒光光譜儀,、紅外光譜儀,、差熱分析儀、核磁共振等具有高制冷恒溫要求設(shè)備,。
應(yīng)用范圍:
對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉(zhuǎn)載,、印刷機(jī)、自動夾座安裝裝置,、噴涂裝置,、離子鍍裝置、蝕刻裝置,、單晶片處理裝置,、切片機(jī)、包裝機(jī),、顯影劑的溫度管理,、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等,。
對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工,、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置,、發(fā)生裝置,、二氧化碳激光加工機(jī)等。
其他產(chǎn)業(yè)用機(jī)器發(fā)熱部分的冷卻:等離子熔接,、自動包裝機(jī),、模具冷卻、洗凈機(jī)械,、鍍金槽,、精密研磨機(jī),、射出成型機(jī)、樹脂成型機(jī)的成型部分等,。
分析檢測機(jī)器的發(fā)熱部分的冷卻: 電子顯微鏡的光源,、ICP發(fā)光分光分析裝置的光源部分、分光光度計(jì)的發(fā)熱部分,、X線解析裝置的熱源,、自動脈沖調(diào)幅器的發(fā)熱部分原子吸光光度計(jì)的光源等。水箱可用的純凈水在機(jī)內(nèi)外循環(huán)冷卻,,可保證對水質(zhì)要求較高的精密儀器的正常運(yùn)行,,延長精密儀器的使用壽命。
常見問題:
1,、水循環(huán)使用了一年多都很正常,,可現(xiàn)在制冷速度好像越來越慢了,在氣溫越高時(shí)越明顯,?
答:水循環(huán)使用很簡單,,但是定期的維護(hù)保養(yǎng)工作還是不能忽視的。有很多看似故障的毛病其實(shí)就是沒有定期做維護(hù)保養(yǎng)引起的,。水循環(huán)自身的電功率和制冷劑從負(fù)載中帶走的熱量都需要從前通風(fēng)罩處的散熱器中排走,,如果前通風(fēng)罩上吸滿灰塵和柳棉等就會妨礙這些熱量的散發(fā),制冷效果將大打折扣,。一般來說在正常的使用條件下制冷量下降都是因?yàn)橥L(fēng)散熱效果太差或環(huán)境溫度太高引起的,。
2、水循環(huán)以前使用都很正常,,可現(xiàn)在發(fā)現(xiàn)噪音比以前大很多,,這是什么原因?
答:前面提到過水循環(huán)的日常維護(hù)工作,,這個(gè)問題也與之有關(guān),。大家都知道,水里面有很少部分的雜質(zhì),,就是蒸餾水在加到水箱后也不可能*保證一點(diǎn)雜質(zhì)都沒有,。對于水循環(huán)而言,一般溫度都設(shè)置在20℃,,特別適應(yīng)微生物的生長和繁衍,。時(shí)間長了以后這些微生物就會堵塞水路的過濾器造成回水不暢,水泵就會有較大的噪音,。有時(shí)這些微生物附在了換熱器的表面,,造成換熱器的傳熱效果變差,制冷量變小。所以一定要嚴(yán)格按照說明書中的要求做好日常維護(hù)工作,,定時(shí)清洗內(nèi)槽,,長期停用,保持槽內(nèi)干燥,。水循環(huán)里面好像有漏水,,有時(shí)地面一會兒就有幾滴,是不是水路上有地方泄漏,? 一般來說在正常使用的過程中,,水路是不會有泄漏的。在環(huán)境溫度比較高空氣中的相對濕度又太大時(shí),,在水循環(huán)的水路中的水泵,、水管接頭、外接水管處容易凝結(jié)露水,,累積多了以后就滴到地面上了,,不用擔(dān)心是水路中有漏水的地方。如果您對這很介意的話,,打開空調(diào)降低房間溫度或是除濕都可以避免露水的產(chǎn)生。
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