應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,電子/電池,航空航天,電氣 |
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產(chǎn)品分類品牌分類
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產(chǎn)品簡介
詳細介紹
儀器介紹:
華測儀器通過多年研究開發(fā)了一種可實現(xiàn),,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器,在高速加熱高速冷卻時,,具有良好的溫度分布,。可實現(xiàn)寬域均熱區(qū),,高速加熱,、高速冷卻,用石英管保護加熱式樣,,無氣氛污染,。可在高真空,, 高出純度氣體中加熱,。設備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,,階段加熱爐,,是目前理想的一種高真空退火爐。
它提高了加熱試驗能力,。同電阻爐和其他爐相比,,紅外線反射退火爐節(jié)省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間,再試驗中也可改寫設定溫度值,。從各方面講,,都能節(jié)省時間并提高實驗速度。同高頻爐相比,,不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求,。同電阻爐一樣安裝簡單,有冷卻系,,an全可靠,。以提高試驗人員的工作效率,,實現(xiàn)全溫度控制操作!
儀器原理:
原理為加熱絲或桂碳棒對爐體加熱,,加熱與降溫速度慢,,效率低下,也無法實現(xiàn)溫度的測量,,加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象,。
高真空退火爐的反射鏡是具有曲率,采用5軸加工系統(tǒng)加工,,以提高反射率,。反射鏡有兩種類型,一種是橢圓形的,,另一種是拋物線型的,,它們適合各種材料的在溫度制控的條件下的測試。
設備優(yōu)勢:
高速加熱與冷卻方式
高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫,。同時爐體可配置水冷系統(tǒng),,增設氣體冷卻裝置,可實現(xiàn)快速冷卻,。
溫度控制
過紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器的組合使用,,可以精確控制樣品的溫度(遠比普通加溫方式)此外,冷卻速度和保持在任何溫度下可提供,。
不同環(huán)境下的加熱與冷卻
加熱/冷卻可用真空,、氣氛環(huán)境、低溫(高純度惰性氣體靜態(tài)或流動),,操作簡單,,使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室,。
設備結(jié)構(gòu):
1,、反射爐溫度控制裝置:
高速升溫時,配套的快速反應的控制裝置,,本控制裝置采用可編程溫度控制器,。高設計,響應速度快,。
2,、可選配置:
(1)干栗:抽速彡120L/min,極限真空度彡4pa,噪音小于52db;
(2)全量程真空規(guī):刀口法蘭接口,,真空測量范圍5X10-7Pa到1atm;
(3)為了高速加熱,、設備采用PID溫度控制,同時采用移相觸發(fā)技術保證試驗溫度,;
(4)根據(jù)設備上的溫度控制器輸入?yún)?shù),,您也可以簡單輸入溫度程序設定和外部信號,。另外還 可以在電腦上顯示熱中的溫度數(shù)據(jù);
(5)自適應熱電偶包括JIS,、K,、J、T,、E,、N、R,、S,、B、以及L,、U,、W型;
(6)大可設定32個程序,、256個步驟的程序,;
(7)30A、60A,、120A內(nèi)置了 SCR電路,,所以范圍很廣。
3,、其他配置:
序號 | 項目 | 數(shù)量 | 品牌 | 備注 |
1 | 爐體 | 1 | 華測 | 大溫度1200℃ |
2 | 加熱源 | 1 | GE() | |
3 | 溫度控制器 | 1 | 華測 | |
4 | 電熱偶 | 1 | omega | |
5 | 溫控表 | 1 | 歐姆龍() | |
6 | 穩(wěn)壓電源 | 1 | 華測 | 可定制 |
7 | 制冷水機 | 1 | 同飛 | 制冷功率8KW |
8 | 分子泵 | 1 | 萊寶() | CF法蘭,,抽速≥40L/s,極限真空度優(yōu)于-0.8Mpa |
儀器試樣試驗:
多應用:
樣品腔內(nèi)徑≥30mm,; 退火爐外徑:≤100mm
1,、電子材料
半導體用硅化合化的PRA (加熱后急速冷卻)
熱源薄膜形成
激活離子注入后
硅化物的形成
2、陶瓷與無機材料
陶瓷基板退火爐
玻璃基板退火爐,。
3,、鋼鐵和金屬材料
薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬
爐焊接模擬
高真空熱處理(1000°c以下)
大氣氣體熔化過程
壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗爐
4、復合材料
耐熱性評價爐
無機復合材料熱循環(huán)試驗爐
5,、其他
高溫拉伸壓縮試驗爐
分段分區(qū)控制爐
溫度梯度爐
爐氣分析
超導陶瓷退火爐
高真空退火爐/*材料測試儀
高真空退火爐/*材料測試儀