射頻磁控濺射鍍膜裝置/磁控濺射鍍膜裝置 型號(hào),；ZH21-HRM-1

可開(kāi)設(shè)的實(shí)驗(yàn)

1、掌握射頻磁控濺射法制膜的基本原理,；

2,、了解磁控濺射鍍膜儀的操作過(guò)程及使用范圍；

3,、磁控濺射法制備金屬膜,、半導(dǎo)體膜、化合物膜,、介質(zhì)膜等薄膜,。

主要參數(shù)

    1、濺射鍍膜室：由不銹鋼底與玻璃鐘罩組成,；有效尺寸：Φ220×H230mm³,；

    2、濺射鍍膜室本底真空：≤1Pa,；濺射腔極限真空：6×10^-1Pa,；

    3,、濺射靶：Φ50mm，濺射靶臺(tái)和濺射靶可調(diào)距離：20～60mm,；

    4,、基片加熱溫度可控范圍：室溫～300℃；

5,、射頻源功率：500W,，13.56MHz；

6,、氣路系統(tǒng)：由兩路轉(zhuǎn)子流量計(jì)控制（可選配質(zhì)量流量計(jì)）,；

    7、真空系統(tǒng)：2XZ-4型旋片真空泵,，抽氣速率：4L/S,，單相220V交流電源供電；

    8,、對(duì)過(guò)流過(guò)壓,、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警，并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施,；

    9,、供電電源：AC220V，50Hz,，整機(jī)功率2KW,。

北京恒奧德科技有限公司  

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