技術(shù)文章
超聲掃描顯微鏡技術(shù)特點(diǎn)及行業(yè)應(yīng)用
閱讀:1718 發(fā)布時(shí)間:2021-7-23
EYE-8 超聲掃描顯微鏡
一、 概述
EYE-8 超聲掃描顯微鏡主要利用高頻的超聲波(5MHz 以上)檢測(cè)材料,、晶圓或半導(dǎo)體封裝 器件內(nèi)部的缺陷位置,、大小和分布狀態(tài)等,對(duì)粘接層面非常敏感,,能夠檢測(cè)出氣孔、裂紋,、夾 雜和分層等缺陷,,以波形、圖形為顯示方式的一種無(wú)損檢測(cè)工具,,可以保留在破壞性檢測(cè)中被 丟失的細(xì)微缺陷,,樣品通過(guò)檢測(cè)后可以繼續(xù)使用;可通過(guò)對(duì)材料密度的分布檢測(cè),,從而推導(dǎo)出 應(yīng)力場(chǎng),、裂紋變化趨勢(shì)等材料的力學(xué)性能,在判別材料密度差異,、彈性模量,、厚度等特性和幾 何形狀的變化方面也具有一定的能力,主要用于對(duì)微電子,,航空航天領(lǐng)域的器件,、組件和材料 進(jìn)行檢測(cè),,實(shí)現(xiàn)失效分析、可靠性分析,、過(guò)程控制,、品質(zhì)控制、產(chǎn)品研發(fā),、工藝提升等,。
圖 1 EYE-8 超聲掃描顯微鏡
二、 技術(shù)特點(diǎn)
? 掃描軸采用線性電機(jī)閉環(huán)控制,,高速靜音,,定位精度高,能實(shí)現(xiàn)快速精確掃描,,另外 其掃描范圍高達(dá) 400mm x 400mm,,不僅適用單個(gè)器件的快速掃描分析,也可放置批量 器件同步掃描,,配合自動(dòng)缺陷識(shí)別功能,,可快速篩選出不合格品。
圖 2 掃描軸電機(jī)
? 分離式超聲波發(fā)射接收系統(tǒng),,配備信號(hào)高,、低頻前置放大裝置,高,、低通濾波器,,保 證信號(hào)質(zhì)量,所有參數(shù)均可通過(guò)計(jì)算機(jī)軟件進(jìn)行設(shè)置,,超聲系統(tǒng)信號(hào)線進(jìn)行良好屏蔽,, 可屏蔽內(nèi)外部噪音,信噪比高,。
圖 3 超聲系統(tǒng)
? 采用的高速 A/D 數(shù)據(jù)采集卡支持雙通道內(nèi)存結(jié)構(gòu),,板載緩存大,支持?jǐn)?shù)據(jù)采集和處理 同步進(jìn)行,,極大提高了掃描效率,,采樣頻率高達(dá) 1GSample/s,確保數(shù)據(jù)準(zhǔn)確還原,。
圖 4 高速 AD 采集卡
? 支持的超聲探頭頻率高,,最高可達(dá) 300MHz,其圖像分辨率可達(dá)幾微米,,另外由于其 超聲系統(tǒng)帶寬范圍廣:5-300MHz,,適配的探頭頻率范圍大:5-300MHz,可根據(jù)器件種 類(lèi)靈活選用合適的超聲探頭,,取得*優(yōu)的檢測(cè)效果,。
圖 5 超聲探頭
? 檢測(cè)模式豐富:A,、B、C 掃描,、體掃描,、多層掃描、逐層掃描,、離線分析,、JEDEC 托盤(pán) 掃描,3D 成像等,,可用圖像的方式顯示被測(cè)件內(nèi)部缺陷的位置,、形狀和大小,在此基 礎(chǔ)上,,通過(guò)不同模式組合使用,,從不同
圖 6 檢測(cè)模式
? 系統(tǒng)配置有水路循環(huán)自?xún)暨^(guò)濾系統(tǒng),具備微米級(jí)水路循環(huán)過(guò)濾系統(tǒng),,保持水的清潔,。
? 系統(tǒng)具有安全門(mén)開(kāi)關(guān)、限位保護(hù)和急停斷電功能,,保護(hù)人身安全,。
三、 設(shè)備主要性能指標(biāo)
? X/Y 檢測(cè)范圍:400mm×400mm,;
? Z 方向聚焦行程:100mm,;
? 最大掃描速度:1000mm/s;
? 掃描軸最高分辨率:0.5μm,;
? 重復(fù)精度:±1μm,;
? 脈沖發(fā)射、接收器最高接收帶寬:5-300MHz,;
? 換能器適配范圍:5-300MHz,;
? 高速數(shù)據(jù)采集卡(A/D 卡)采樣頻率:1GSample/s;
四,、 安裝條件
? 設(shè)備主機(jī)尺寸:890mm(寬)* 1000mm(深)* 1300mm(高);
? 電力供應(yīng):~220V±22V,,50Hz,;
? 水源:設(shè)備需要去離子水,定期更換,;
? 凈化間:建議 100000 級(jí)以上,;
? 環(huán)境溫度:15℃ - 35℃;
五,、 主要軟件功能
? 掃描模式:A 掃描,、B 掃描,、C 掃描、輪廓掃描,,多層掃描,,相位掃描,逐層掃描,, 塊掃描模式,,托盤(pán)掃
描, 離線分析,,3D 掃描,,透射掃描(選配)等;
? 掃描過(guò)程中 A 波形實(shí)時(shí)顯示,,方便實(shí)時(shí)調(diào)整數(shù)據(jù)門(mén),;
? 通過(guò)軟件設(shè)置掃描軌跡參數(shù),B、C 掃描的起始位置可在掃描范圍內(nèi)任意設(shè)置,;
? 系統(tǒng)具有開(kāi)機(jī)自檢,、故障診斷和故障報(bào)警指示功能;
? 多層掃描模式支持高達(dá) 100 層同時(shí)掃描;
? 高掃描圖像分辨率可達(dá) 10000 * 10000,;
? 前表面跟隨功能,,在器件稍有不平整的情況下能正常完成掃描;
? 正,、負(fù),、全峰值圖像、相位圖像,、TOF 圖像實(shí)時(shí)切換,;
? 信號(hào)增益等參數(shù)均可在掃描過(guò)程中更改,實(shí)時(shí)生效,;
? 自動(dòng)儲(chǔ)存設(shè)置參數(shù),,支持提取掃描結(jié)果的參數(shù)設(shè)置,方便二次掃描,,減少后期相 同器件的參數(shù)設(shè)置時(shí)間,,
提升工作效率;
? 通過(guò)相位掃描,,可實(shí)現(xiàn)缺陷自動(dòng)判別,,缺陷尺寸和面積統(tǒng)計(jì),自動(dòng)計(jì)算缺陷占測(cè) 量面積的百分比,,可對(duì)分
層缺陷進(jìn)行實(shí)時(shí)著色,;
? 支持超過(guò)多個(gè)檢測(cè)結(jié)果圖像同時(shí)顯示,并能重新進(jìn)行分析處理;
? 系統(tǒng)可對(duì)材料聲阻抗,、聲速進(jìn)行測(cè)量;
? 支持掃描結(jié)果進(jìn)行長(zhǎng)度測(cè)量,,可實(shí)現(xiàn)樣品厚度測(cè)量;
? 支持對(duì)掃描結(jié)果進(jìn)行文字注釋功能,;
? 支持掃描圖像實(shí)時(shí)縮放功能,,方便觀測(cè);
? 強(qiáng)大的圖像處理軟件包:圖像的縮放,、拖動(dòng),、測(cè)量注釋、圖像的中值濾波,,均值 濾波,,反色處理,浮雕處
理,,增強(qiáng)對(duì)比度,、增強(qiáng)、偽彩色等處理功能,;
? 掃描結(jié)果可保存為:bmp,、jpg 圖像,也可保存為帶掃描參數(shù)的 csam 文件,;
? 強(qiáng)大的自動(dòng)出報(bào)告功能,,支持一鍵掃描結(jié)果和 A 波形保存,方便檢測(cè)人員后期制 作檢測(cè)報(bào)告,。
六,、應(yīng)用領(lǐng)域
? 半導(dǎo)體器件及封裝
塑封 IC、FipChip,、芯片級(jí)封裝 CSP,、BGA(金屬、塑封),、Molded Underfill (MUF),、混合多 芯片模組(MCM)、堆疊芯片成像(SDI),、分立器件,、IGBT 等大功率半導(dǎo)體器件等;
? 晶圓
鍵合晶圓,、MEMS,、LED、BSI Sensors,、 TSV 等;
? 其他微電子 多層陶瓷電容(MLCC)、陶瓷封裝管殼,、半導(dǎo)體電子制冷器,、航空航天組件等;
? 材料檢測(cè) 金剛石復(fù)合片,、陶瓷,、玻璃、金屬,、塑料,,焊接件等;
七,、 應(yīng)用案例
1,、 塑封IC
2、PBGA
3,、FlipChip
4,、大功率整流器件55
5、晶閘管和IGBT
6,、半導(dǎo)體制冷器
7,、陶瓷電容
8、封裝管殼
EYE-8 超聲掃描顯微鏡