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鄭州歐諾儀器有限公司

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HW.SY11-KP3-三孔三溫水浴鍋基礎參數

閱讀:879      發(fā)布時間:2023-10-23
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HW.SY11-KP3-三孔三溫水浴鍋基礎參數:HW.SY11-KP3水浴鍋本產品、科研單位,、實驗室蒸餾,、濃縮干燥及恒溫加熱化學品、生物制品,、檢查血清和生化實驗,,恒溫培養(yǎng)以及對注射器和小型手術器械進行煮沸消之用

HW.SY11-KP3水浴鍋本產品、科研單位,、實驗室蒸餾,、濃縮干燥及恒溫加熱化學品、生物制品,、檢查血清和生化實驗,,恒溫培養(yǎng)以及對注射器和小型手術器械進行煮沸消之用

HW.SY11-KP3-三孔三溫水浴鍋基礎參數技術參數

型號:HW.SY11-KP3(三孔三溫)

規(guī)格:智能

功率:900W

控溫范圍:室溫+5℃~99.9℃

水溫波動性、水溫均勻性:≤±0.5℃

水槽尺寸(mm):(150×140×90)×3

特點

產品的內膽,、外殼均采用優(yōu)質不銹鋼拉絲板材,,溫控系統(tǒng)采用微機PID智能控制,感熱性能強,、靈敏度高,、水溫波動性、水溫均勻性在±0.5℃范圍內

適用范圍

本產品,、科研單位,、實驗室蒸餾、濃縮干燥及恒溫加熱化學品,、生物制品、檢查血清和生化實驗,,恒溫培養(yǎng)以及對注射器和小型手術器械進行煮沸消之用,。


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