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離子鍍

1.定義

蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面,，稱為離子鍍。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合,。一種離子鍍系統(tǒng)如圖4[離子鍍系統(tǒng)示意圖]

2.原理

蒸發(fā)源接陽(yáng)極,，工件接陰極，當(dāng)通以三至五千伏高壓直流電以后,，蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生輝光放電,。由于真空罩內(nèi)充有惰性氬氣，在放電電場(chǎng)作用下部分氬氣被電離,，從而在陰極工件周?chē)纬梢坏入x子暗區(qū),。帶正電荷的氬離子受陰極負(fù)高壓的吸引，猛烈地轟擊工件表面,，致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出,，從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗,。隨后，接通蒸發(fā)源交流電源,，蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā),，進(jìn)入輝光放電區(qū)并被電離。帶正電荷的蒸發(fā)料離子,，在陰極吸引下,，隨同氬離子一同沖向工件，當(dāng)拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過(guò)濺失離子的數(shù)量時(shí),，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層,。

3.分類

①  磁控濺射離子鍍

②  反應(yīng)離子鍍

③  空心陰極放電離子鍍

④  多弧離子鍍。