2018年（第九屆）中國壓鑄、擠壓鑄造,、半固態(tài)加工年會繼續(xù)圍繞“壓鑄,、擠壓鑄造、半固態(tài)加工”為學術主題,。本次年會,，是繼2001年在山東煙臺、2003年在廣東深圳,、2005年在浙江寧波,、2007年在重慶、2009年在廣東深圳,、2012年在蘇州,、2014年在廣州、2016年在江蘇南通之后舉行的第九次中國壓鑄,、擠壓鑄造,、半固態(tài)加工學術年會，是一次高水平的學術交流和技術交流會議,，也將是對近年來中國在壓鑄,、擠壓鑄造和半固態(tài)加工等方面科技成果的一次大檢閱。

飛納電鏡期待與參會人員就掃描電鏡在壓鑄,、擠壓鑄造,、半固態(tài)加工的應用進行詳細討論。誠摯邀請參會人員蒞臨飛納電鏡展位參觀指導,。

會議時間：2018 年 11 月 23 日 - 26 日
會議地點：廣東珠海德翰大酒店

會議主題

1. 鋁,、鎂、鈦,、鋅,、銅等合金及復合材料；
2. 壓鑄,、低壓鑄造,、擠壓鑄造、差壓鑄造,、半固態(tài)加工工藝,；
3. 壓鑄機、低壓鑄造機,、擠壓鑄造機,、差壓鑄造機、半固態(tài)加工設備,；
4. 模具,；
5. 涂料,、脫模劑；
6. 熔煉,、精煉,；
7. CAD/CAM/CAE；
8. 數值模擬,；
9. 檢測及過程控制,；市場與管理；
10. 金屬微連接成形,；
11. 結構強度輕合金的開發(fā),、成形與應用。

飛納臺式掃描電鏡在金屬領域的應用

一,、金相樣品背散射成像分析

飛納電鏡背散射探頭成像可以顯示出材料的成分襯度,，而背散射探頭屬于被動信號采集，對燈絲亮度有著*的要求,。飛納電鏡采用高亮度 CeB6 燈絲或肖特基場發(fā)射電子源,，使其背散射成像可以反映更多材料信息，同時也保證優(yōu)異的二次電子形貌像,。

圖1. 為金相樣品的背散射成像,。沿著箭頭方向從內到外可以看到 4 種不同的成分襯度，且分界線非常明顯,。代表這4個位置不同種類元素的含量各不相同,，并且沿著箭頭方向，重元素占比越來越低,。

二,、污染、夾雜等缺陷能譜分析

壓鑄工件由于原材料,、脫模劑、工藝控制等原因,，往往存在污點,、霉斑或夾渣等缺陷。在進行缺陷分析時,，需要通過能譜測定成分種類,，進而判定缺陷產生的原因，為工藝調整提供指導,。

得益于良好的燈絲亮度,、超薄氮化硅窗口和大面積能譜活性面積，飛納電鏡在能譜分析中有著出色表現,。通過能譜面掃可以獲取材料元素的分布情況,，如圖 2 所示,。

三、失效工件的分析

在失效分析中,，背散射成像與二次電子成像各有優(yōu)勢：背散射成像可以看到不同的成分襯度,，二次電子成像在刻畫表面形貌起伏時更具立體感，細節(jié)更豐富,。結合兩種成像模式,，可以更準確的反映出材料的結構特征、雜質種類和失效機理,。

鑄件中析出物背散射電子圖像和二次電子圖像

斷口背散射電子圖像和二次電子圖像

四,、飛納電鏡全景拼圖

飛納電鏡大樣品室版 Phenom XL，有較大的倉室空間,，方便觀察大件樣品,。同時配有全景拼圖功能，可以得到極大視野的掃描電鏡圖像,，大小隨心,，一覽無余。

五,、,、便捷、穩(wěn)定

飛納電鏡全自動操作,、15秒快速抽真空,、不噴金觀看絕緣體、2-3年更換燈絲等特點,，無需防震環(huán)境,，可放置在任意樓層，能譜無外接部件,，無需液氮冷卻,。、便捷,、穩(wěn)定的優(yōu)勢,，幫助用戶在保證檢測質量的前提下，大幅提升工作效率,。

目前,，飛納電鏡已入駐多家高校、研究所和企業(yè),，助力金屬領域的研究與開發(fā),。