蝕刻、洗滌溶液比重,、濃度在線監(jiān)測儀 MZ-EW-ON-LINE

適用于：氯化鐵,、氯化銅蝕刻槽、碳酸鈉水溶液,、鹽酸及雙氧水混合溶液,、氫氧化鈉水溶液洗滌槽等工業(yè)制程的溶液比重、濃度控制場所,。

原理：參考GB/T611,、T2423、T22230,、T5009、ISO 6353,、758規(guī)范,。應(yīng)用流體靜力學浮力
法、流體力學Bernoulli 原理在線監(jiān)測蝕刻,、洗滌溶液的比重變化,。再應(yīng)用Lagrange
內(nèi)插法轉(zhuǎn)換蝕刻、洗滌溶液的濃度,。監(jiān)測在線溶液濃度的動態(tài)數(shù)據(jù),。

功能：
緩沖裝置TP-30 *的設(shè)計，*符合流體,；
靜力學原理,，讓測量數(shù)據(jù)更加準確。

規(guī)格：
 

技術(shù)數(shù)據(jù)：
1,、 碳酸鈉水溶液可將膜面上未受光照的區(qū)域顯影去除,。
2、 鹽酸及雙氧水混合溶液可將裸露出來的銅箔腐蝕去除,，形成線路,。
3、 氫氧化鈉水溶液是強電解質(zhì),，可將功成身退的干膜光阻洗除,。
4、 印制電路中蝕刻速率降低與溶液比重,、氯化銨的含量（濃度）有關(guān),。
5、 蝕刻液中的氯離子濃度過高,，將造成印制電路中金屬抗蝕鍍層被浸蝕,。
6、 蝕刻液中的氯化鈉含量過低,，將造成印制電路中銅表面發(fā)黑,，蝕刻不動。

操作說明：
1,、 此設(shè)備將主機置放在一個容易操作的平臺上,，主機前方裝設(shè)取樣槽。
2,、 待測液體經(jīng)由取樣槽內(nèi)的進出孔進出,，透過取樣槽內(nèi)感應(yīng)球的浮力變化自動顯出液體的比重值。
3,、 透過連續(xù)的動作即可完成在線蝕刻,、洗滌溶液比重的測量與監(jiān)控。并轉(zhuǎn)換讀取在線蝕刻,、洗滌溶液濃度的動態(tài)數(shù)據(jù),。


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