真空碳管爐用途：適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化,、晶體的精密退火,、陶瓷釉料制備、粉末冶金,、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理,，是科研單位,、高等院校,、工礦企業(yè)理想的實驗和生產設備
真空碳管爐
GR.VCTF系列真空碳管爐詳細介紹
GR.VCTF系列,，具有*的性能設計，集多項于一身,，安全性，可靠性,，實用性均達*效果,。
一、結構簡介：
本產品由爐蓋,、爐體,、爐底、真空系統(tǒng)及電氣控制系統(tǒng)等組成,。
爐蓋,、爐體及爐底均采用雙層水冷結構,，保持爐殼溫度不超過60℃,。爐蓋打開方式為手動,，爐蓋上設有觀察孔。爐體內有用石墨做成的保溫層,，發(fā)熱元件采用石墨棒。1000℃-2300℃采用紅外為傳感器,。
真空系統(tǒng)采用二級泵,，即650分子泵與2X-15機械泵，機械泵上設有電磁放氣閥避免停電后返油,。真空機組上設有放氣閥及充氣閥,。
電氣控制采用大電流變壓器、調壓器及溫度控制儀表組成溫度控制執(zhí)行回路,。電路設有斷水,、過流、超溫報警及保護功能,。
二、技術參數(shù)：
1.額定功率：50KW
2.zui高溫度：2500℃
3.工作區(qū)尺寸：Ф60×120
4.極限真空度：6.67×10-4Pa
5.溫度控制：紅外自動控制
真空熔煉爐
GR.VMF系列真空熔煉爐詳細介紹
GR.VMF系列真空熔煉爐,，具有*的性能設計,，集多項于一身,，安全性,，可靠性,，實用性均達*效果,。
小型真空熔煉爐廣泛應用于大專院校及科研單位，在真空或保護氣氛條件下對金屬材料（如不銹鋼,、鎳基合金,、銅、合金鋼,、鎳鈷合金,、稀土釹鐵錋等）的熔煉處理，也可進行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造,。
一,、技術參數(shù)
1．設備名稱：真空感應熔煉爐
2．冷態(tài)極限真空度：5×10﹣3Pa
3．額定溫度：1700℃
4. 額定功率：15KW
5. ;坩堝容量：100g～500g（熔液）
6．壓升率：≤2Pa／h
7．中頻電源：IGBT
二、結構說明
本產品由爐蓋,、爐體,、回轉機構、澆注裝置,、真空系統(tǒng)及高頻電源控制系統(tǒng)等組成,。
1、爐體：為全不銹鋼結構,。爐殼采用雙層水冷結構,，爐殼溫度不超過50℃。爐蓋打開方式為手動,，并加有鎖緊裝置,，爐蓋上設有觀察孔及屏蔽等。
2,、回轉機構：與爐體用法蘭連接,，感應線圈由銅管繞成螺旋形從爐體引出，采用威爾遜密封,，密封可靠,。
3、澆注裝置：在坩堝旁邊從爐體內生一平臺,，上面放置錠模,，料熔煉好以后轉動手柄，將坩堝內的料傾倒在錠模內,。
4,、真空系統(tǒng)：采用二級泵，油擴散泵（或分子泵）與直聯(lián)泵,。真空機組上設有放氣閥及充氣閥。
5,、電源：電源采用IGBT進口功率器件,，更加集成化小型化，有效輸出功率達到90%以上,，省電節(jié)能,，比傳統(tǒng)可控硅中頻節(jié)能60%！,，電氣系統(tǒng)設有過流,、過壓返饋及保護電路。
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