光學材料研究反應裝置

一,、簡介：光學材料研究反應裝置主要應用于連續(xù)相光催化,，氣固相光催化，氣液反應光催化，在污染物降解,，催化合成,，硫化反應，熱催化等領(lǐng)域獲得很好的應用,；尤其在光催化二氧化碳CO2還原,、光電催化活性評價、VOC的降解分析（非甲烷總烴的降解分析）,、苯系物的降解分析,、國標乙醛的降解分析、甲醛的光催化,、汽車尾氣氮氧化物的降解分析,、光催化的固氮反應等。巖征儀器可按照客戶工藝要求,，非標定制成套反應系統(tǒng),。

二、系統(tǒng)特點：

1,、光熱催化液體燃料評價系統(tǒng)設(shè)計方案采用標準PID工藝流程設(shè)計,，裝置主要元器件均采用國內(nèi)外：如氣體減壓閥、背壓閥采用美國TESCOM,、壓力表采用美國雅思科,，歐米茄壓力傳感器；質(zhì)量流量計采用Bronkhorst,，主要管閥件采用Swagelok耐高溫閥等,。

2、可視高溫反應器,，耐溫500℃,，耐壓6MPa；頂端配置進口藍寶石視窗,，內(nèi)進氣管延伸反應器底部,，并配置有氣體分布器。反應釜內(nèi)配置石英杯,，要求石英杯大小與反應釜內(nèi)壁相吻合,，保證傳熱均勻無溫差。

3,、置配置四個氣路進料（氬氣,、氫氣、一氧化碳氣,、二氧化碳氣）,，采用盤管與混合罐一體的結(jié)構(gòu),，可以增大其換熱面積與混合效果,。

4,、控制儀表采用德國SIEMENS品牌儀表與計算機聯(lián)合控制。并設(shè)置多級關(guān)聯(lián)的保護系統(tǒng),，確保裝置系統(tǒng)的設(shè)備和操作人員的安全,。

5、控制單元集成在計算機控制軟件中,。系統(tǒng)內(nèi)的參數(shù)控制均由電腦軟件完成控制（壓力,、溫度、流速等）,。

6,、測溫用熱電偶采用Omega牌熱電偶,反應釜外測溫點3個，釜內(nèi)測溫點1個,。反應釜溫度范圍30-500℃,，精度±0.5℃

三、系統(tǒng)備品備件清單表：

序號 名稱 規(guī)格型號 品牌 數(shù)量

1 機械式壓力表 10Mpa 2.5級 指針 Wika或等同 2

2 氣體過濾器 2um Swagelok 2個

3 單向閥 1/3psi開啟壓力 Swagelok 2個

4 密封圈 石墨密封圈 巖征 6個

5 反應管接頭 316L 巖征 4個

6 循環(huán)管 硅膠 巖征 1根

7 熱電偶 KMQXL-125U-6 Omega 2只

8 熱電偶接頭1 RMJ-K-S Omega 2個

9 熱電偶接頭2 SMPW-CC-K-M Omega 2個

10 濾光片 420截止型 YZ 1片

11 濾光片 紫外光 YZ 1片

12 熔斷器 /20A Chnt 10個