進(jìn)口電化學(xué)工作站是一款由單片機(jī)控制的具有16位總線寬度及18位AD轉(zhuǎn)換精度的工作站,。該儀器擁有40多種電化學(xué)與電分析化學(xué)實(shí)驗(yàn)方法,。使用簡單方便，實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)實(shí)時(shí)顯示,，便于操作者直觀,、方便的觀測實(shí)驗(yàn)狀態(tài)。同時(shí),，該儀器適合兩電極,、三電極及四電極工作模式?？蓾M足化學(xué),、材料、能源,、環(huán)境,、醫(yī)學(xué)等眾多領(lǐng)域的科研及教學(xué)工作。該儀器可實(shí)現(xiàn)電位（控制）,、電流控制,，開路電壓測量、各種伏安分析和極譜分析等電化學(xué)研究和分析方法,。
進(jìn)口電化學(xué)工作站是專為能源樣品測試而打造的多樣品阻抗測試系統(tǒng),。8個(gè)通道進(jìn)行序列測試，尤其適合樣品量大的情況；連續(xù)測試,，無需值守,，充分提高用戶的時(shí)間利用率。
該系統(tǒng)可與電池循環(huán)充放電設(shè)備聯(lián)用,，在對電池充放電的同時(shí),，進(jìn)行阻抗序列測試，也適合級電容器,、燃料電池等樣品的阻抗測試,。
利用進(jìn)口電化學(xué)工作站，常見的分析方法有：
?。?）線性極化（線性掃描法）及用來研究添加劑對鍍層質(zhì)量的影響,，比如當(dāng)極化加強(qiáng)時(shí)，鍍層一般可以得到細(xì)化,。
?。?）循環(huán)伏安法，可以用來研究合金或多組分電鍍時(shí),，如何控制不同成分的沉積量,。通過不同的添加劑或者調(diào)整添加劑的用量，在循環(huán)伏安曲線上可以看到氧化還原電位的移動（還原電位即為沉積電位）,。
?。?）進(jìn)口電化學(xué)工作站交流阻抗/微分電容曲線法，通過分析電容變化曲線,，了解添加劑對吸附大小的影響,，吸附越大時(shí)，鍍層的平整性就越好,。微分電容曲線在電化學(xué)工作站中由電位掃描交流阻抗方法測量得到,。
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