中國(guó)臺(tái)灣JOXTEC高精度烤膠機(jī)HP20/HP30/HP40/HP50

光刻膠烘焙裝備的選擇
  光刻工藝及其相干技術(shù)是微電子機(jī)械系統(tǒng)（MEMS）加工工藝的重要構(gòu)成部門,。均膠以及烘焙是光刻工藝中不成缺少的一道兒工序，為增長(zhǎng)膠層與硅片表面粘附能力,，提高在接觸式暴光中膠層與掩模版接觸時(shí)的耐磨性能及不變膠層的感光靈敏度,，通常接納烘箱或者加熱板等加熱裝備對(duì)光刻膠舉行干燥。烘箱加熱由于速率慢,、且加熱易造成表面以及內(nèi)部受熱不均勻,，效驗(yàn)欠佳！而熱板易于到達(dá)在膠的厚度標(biāo)的目的且快速均勻烘焙等要求,，今朝越來(lái)越多地接納熱板加熱的方式,。
  所以烤膠機(jī)的表面溫度均勻性、溫度控制精疏密程度,、溫度上升速率等是選擇烤膠機(jī)的首要性能指標(biāo)思量,。

采用高精度溫度控制器,，PID控制，解析度0.1℃

14bit的A/D轉(zhuǎn)換分辨率,，0.2%FS的顯示精度,，取樣時(shí)間250ms,可手動(dòng)補(bǔ)償PV顯示值(PVOS)。內(nèi)建Autozero-Autospan功能,，自動(dòng)校正零點(diǎn)及斜率,，使顯示精度不因長(zhǎng)時(shí)間而劣化。

自動(dòng)演算(AT)：使用自動(dòng)演算功能,，可自動(dòng)算出系統(tǒng)的PID參數(shù)數(shù)值,。當(dāng)自動(dòng)演算進(jìn)行中，PV會(huì)上下震動(dòng)1~2個(gè)周期,。為保護(hù)使用者的設(shè)備,。可設(shè)定自動(dòng)演算偏移量(ATVL),，使PV在數(shù)值較低處震蕩,，有效避免沖溫效應(yīng)。

導(dǎo)熱性能的合金盤面

經(jīng)過(guò)多次實(shí)驗(yàn)和測(cè)試,，公司研發(fā)出導(dǎo)熱性能且具有較高強(qiáng)度的合金盤面,。保證了盤面加熱溫度的均勻性。并且長(zhǎng)時(shí)間使用不會(huì)變形,，平整如初,！

加熱元件的均勻排布

公司利用有限元熱分析方法對(duì)加熱板盤面溫度均勻性進(jìn)行了分析，經(jīng)多次模擬分析和調(diào)整,，加熱結(jié)構(gòu),，優(yōu)化設(shè)計(jì)出了滿足加熱板盤面溫度均勻性可達(dá)*要求的加熱元件排布方式，并以此為主要依據(jù)完成了整體結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì),。目前加熱板升溫速度快,，盤面溫度均勻，加熱元件耐用,。

HP系列烤膠機(jī)被設(shè)計(jì)為控溫精度良好,，較高的熱均勻性，簡(jiǎn)單實(shí)用型烤膠機(jī),。

HP烤膠機(jī)升溫速度快,，由高性能數(shù)顯溫控表加熱控制，長(zhǎng)壽命,、高熱均勻性的發(fā)熱部件供熱,，高硬度、耐腐蝕的陽(yáng)極氧化鋁面板,。

適應(yīng)于半導(dǎo)體硅片,，載玻片,，晶片，基片,，ITO導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面涂覆后,，薄膜烘干,，固化。熱板溫度穩(wěn)定度高,，重復(fù)性好,。可在工礦企業(yè),、科研,、教育等單位作生產(chǎn)、科研,、教學(xué)之用,。

產(chǎn)品特性:

• 可同時(shí)顯示設(shè)定溫度與實(shí)際溫度
• 板面采用鋁合金一體成型，導(dǎo)熱率良好,，加熱絕不變形,。
• 陽(yáng)極硬質(zhì)氧化鋁面板及噴砂處理，具有量好的耐磨,、耐酸堿特性,。
• 外殼為不銹鋼材質(zhì)制成
• 溫度控制：高精度微電腦PID自動(dòng)控制，LED數(shù)字顯示,。
• 溫度范圍：室溫～300℃ 盤面均勻度佳,。
• 可溫度校正，保證顯示溫度與實(shí)際溫度的*性,。

8,、真空吸附機(jī)型HPV系列

產(chǎn)品技術(shù)規(guī)格：

中國(guó)臺(tái)灣JOXTEC高精度烤膠機(jī)HP20/HP30/HP40/HP50

典型用戶：

宏力半導(dǎo)體,、恒諾微電子、信泰光電,、統(tǒng)寶光電,、風(fēng)華、TDK CO., LTD,、辰田半導(dǎo)體,、上海交大微納院

復(fù)旦大學(xué)微電子系、世紀(jì)晶源科技有限公司,、富士邁半導(dǎo)體精密工業(yè),、*長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所

上海*表面等離子光學(xué)實(shí)驗(yàn)室等等