等離子刻蝕機(jī)，又叫等離子蝕刻機(jī),、等離子平面刻蝕機(jī),、等離子體刻蝕機(jī)、等離子表面處理儀,、等離子清洗系統(tǒng)等,。等離子刻蝕,，是干法刻蝕中最常見的一種形式,，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體,，從而形成了等離子或離子,，電離氣體原子通過電場(chǎng)加速時(shí),，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。某種程度來(lái)講,，等離子清洗實(shí)質(zhì)上是等離子體刻蝕的一種較輕微的情況,。進(jìn)行干式蝕刻工藝的設(shè)備包括反應(yīng)室、電源,、真空部分,。工件送入被真空泵抽空的反應(yīng)室。氣體被導(dǎo)入并與等離子體進(jìn)行交換,。等離子體在工件表面發(fā)生反應(yīng),，反應(yīng)的揮發(fā)性副產(chǎn)物被真空泵抽走。等離子體刻蝕工藝實(shí)際上便是一種反應(yīng)性等離子工藝,。發(fā)展是在反應(yīng)室的內(nèi)部安裝成擱架形式,，這種設(shè)計(jì)的是富有彈性的，用戶可以移去架子來(lái)配置合適的等離子體的蝕刻方法：反應(yīng)性等離子體（RIE）,，順流等離子體（downstream）,，直接等離子體（direction plasma）。
等離子刻蝕機(jī)的優(yōu)勢(shì)：
等離子刻蝕機(jī)是利用高能電子轟擊氣體產(chǎn)生等離子體,，利用其化學(xué)反應(yīng)特性實(shí)現(xiàn)材料表面的加工,。等離子體是一種帶電的氣體體系，其中電子,、離子,、原子和分子之間相互作用，從而產(chǎn)生各種化學(xué)反應(yīng),。
等離子刻蝕機(jī)中的等離子體可以通過兩種方式產(chǎn)生,，一種是射頻電渦流放電，另一種是微波功率放電,。射頻電渦流放電是在射頻電場(chǎng)作用下,，氣體加熱變成等離子體，放電工作穩(wěn)定,，但是不能實(shí)現(xiàn)高密度等離子體,。而微波功率放電則能產(chǎn)生更高密度、更強(qiáng)活性的等離子體,，但是工作不太穩(wěn)定,。
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