等離子體去膠機型號：ME1
ME1型等離子體去膠機,，是在（RIE）反應(yīng)離子刻蝕機的基礎(chǔ)上簡化改進而來，為小型等離子去膠機,，具有體積小,，性能優(yōu)良、用途多,、工藝速率高,、均勻性及重復(fù)性好、價格低,、使用方便等特點,。是各電子器件企業(yè)及科研單位、大專院校的機型,。適合于微電子制作工藝中光刻膠的去膠工藝，同時有RIE刻蝕功能,，可以刻蝕Si,、SiO2、SiN,。已出口國外,。
　　整機基本配置和性能：
　　　　1．激勵電源：13.56MHz 500W；帶匹配器和功率計各1臺（自動匹配可選）,，帶定時器1臺,。 
　　　　2．真空系統(tǒng)：8升/秒機械泵1臺。帶真空計,。 
　　　　3．載片臺尺寸：Ф220mm ,，一次可放3片4英寸片或者4片3英寸片。
　　　　4．氣路系統(tǒng)：2路進氣,；2個質(zhì)量流量計,，2路顯示。 
　　　　5．手動控制（可以選擇配置工藝過程自動控制）,。
　　　　6．均勻性：±5% （4英寸內(nèi)）