產(chǎn)品概述：
SPA-110 是 Santec 的下一代掃描光子學(xué)分析儀,。它用作 Santec 可調(diào)諧激光器的便捷光頻域反射法 （OFDR） 附加模塊。配對(duì)后,，這個(gè)完整的系統(tǒng)甚至可以分析緊湊和復(fù)雜的光學(xué)元件,，提供反射率、透射率,、傳播損耗和事件距離的詳細(xì)結(jié)果,。
整個(gè)系統(tǒng)使用光頻域反射法 （OFDR） 技術(shù)來分析空間域中光纖器件和元件的背向反射和傳輸特性。它生成的跡線類似于光時(shí)域反射儀 （OTDR） 的跡線,，但分辨率和精度明顯更高,。該系統(tǒng)的采樣分辨率為 5 μm，可輕松識(shí)別光子集成電路 （PIC） 和硅光子 （SiPh） 器件內(nèi)的結(jié)構(gòu),。
SPA-110 基于 Santec 的 SPA-100 技術(shù),，將總測量范圍從 5 米擴(kuò)展到 30 米。這種增加的范圍允許在光纖設(shè)置中添加光信號(hào)調(diào)節(jié)設(shè)備,，例如偏振控制器和光開關(guān),。這一增強(qiáng)功能使該系統(tǒng)特別適用于對(duì)硅光子電路、光纖元件和緊湊型光纖組件等小型器件進(jìn)行更全面的表征,。
此外,，擴(kuò)展的掃描長度允許分析具有緊密間隔組件的較長光纜組件，而 OTDR 技術(shù)可能難以區(qū)分它們,。
產(chǎn)品特點(diǎn)：
業(yè)界較高分辨率的反射計(jì) （<5 μm）
測量光學(xué)元件上的插入損耗和回波損耗
改進(jìn)的 30m 測量范圍
用于硅光子對(duì)準(zhǔn)和測試的接近傳感
與 Santec TSL-570（也稱為 TSL-550/TSL-710/TSL-770）集成)
用于集成 OPM 的饋通端口,，用于硅光子器件的主動(dòng)對(duì)準(zhǔn)
用于硅光子應(yīng)用的保偏光纖
WDL 測量的寬掃描范圍（高達(dá) 160 nm）
提供 O 波段和 CL 波段配置。
寬動(dòng)態(tài)范圍 （>80 dB）,，用于 WDL 測量,，無需增益切換
包括簡單的分析軟件
化工儀器網(wǎng)