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作為一名電源研發(fā)工程師,自然經(jīng)常與各種芯片打交道,,可能有的工程師對芯片的內(nèi)部并不是很了解,,不少同學在應用新的芯片時直接翻到Datasheet的應用頁面,按照推薦設計搭建外圍完事,。如此一來即使應用沒有問題,,卻也忽略了更多的技術細節(jié),對于自身的技術成長并沒有積累到更好的經(jīng)驗,。
今天以一顆DC/DC降壓電源芯片LM2675為例,,盡量詳細講解下一顆芯片的內(nèi)部設計原理和結構,IC行業(yè)的同學隨便看看就好,,歡迎指教,!
LM2675-5.0的典型應用電路
打開LM2675的DataSheet,首先看看框圖,。
LM2675的框圖
上圖圖包含了電源芯片的內(nèi)部全部單元模塊,。BUCK結構我們已經(jīng)很理解了,這個芯片的主要功能是實現(xiàn)對MOS管的驅動,,并通過FB腳檢測輸出狀態(tài)來形成環(huán)路控制PWM驅動功率MOS管,,實現(xiàn)穩(wěn)壓或者恒流輸出。這是一個非同步模式電源,,即續(xù)流器件為外部二極管,,而不是內(nèi)部MOS管。
下面咱們一起來分析各個功能是怎么實現(xiàn)的,。
基準電壓
類似于板級電路設計的基準電源,,芯片內(nèi)部基準電壓為芯片其他電路提供穩(wěn)定的參考電壓。這個基準電壓要求高精度,、穩(wěn)定性好,、溫漂小。芯片內(nèi)部的參考電壓又被稱為帶隙基準電壓,,因為這個電壓值和硅的帶隙電壓相近,,因此被稱為帶隙基準。這個值為1.2V左右,如圖1的一種結構:
圖1
這里要回到課本講公式,,PN結的電流和電壓公式:
可以看出是指數(shù)關系,,Is是反向飽和漏電流(即PN結因為少子漂移造成的漏電流)。這個電流和PN結的面積成正比,!即Is->S,。
如此就可以推導出:
Vbe=VT*ln(Ic/Is)
回到圖1,由運放分析VX=VY,,那么就是I1*R1+Vbe1=Vbe2,,這樣可得:I1=△Vbe/R1。而且因為M3和M4的柵極電壓相同,,因此電流I1=I2,,所以推導出公式:I1=I2=VT*ln(N/R1)。N是Q1,、Q2的PN結面積之比,。
這樣我們后得到基準Vref=I2*R2+Vbe2,。關鍵點:I1是正溫度系數(shù)的,,而Vbe是負溫度系數(shù)的,再通過N值調(diào)節(jié)一下,,可是實現(xiàn)很好的溫度補償,,得到穩(wěn)定的基準電壓。
N一般業(yè)界按照8設計,,要想實現(xiàn)零溫度系數(shù),,根據(jù)公式推算出Vref=Vbe2+17.2*VT,所以大概在1.2V左右的,。目前在低壓領域可以實現(xiàn)小于1V的基準,,而且除了溫度系數(shù)還有電源紋波抑制PSRR等問題,限于水平?jīng)]法深入了,。
后的簡圖如圖2,,運放的設計當然也非常講究:
圖2
溫度特性仿真,如圖3,。
圖3
振蕩器OSC和PWM
我們知道開關電源的基本原理是利用PWM方波來驅動功率MOS管,,那么自然需要產(chǎn)生振蕩的模塊,原理很簡單,,就是利用電容的充放電形成鋸齒波和比較器來生成占空比可調(diào)的方波。
圖4
后詳細的電路設計圖,,如圖5,。
圖5
這里有個技術難點是在電流模式下的斜坡補償,針對的是占空比大于50%時為了穩(wěn)定斜坡,額外增加了補償斜坡,,我也是粗淺了解,,有興趣同學可詳細學習。
誤差放大器
誤差放大器的作用是為了保證輸出恒流或者恒壓,,對反饋電壓進行采樣處理,。從而來調(diào)節(jié)驅動MOS管的PWM,如圖6,。
圖6
驅動電路
后的驅動部分結構很簡單,,就是很大面積的MOS管,電流能力強,,如圖7,。
圖7
其他模塊電路
這里的其他模塊電路是為了保證芯片能夠正常和可靠的工作,雖然不是原理的核心,,卻實實在在的在芯片的設計中占據(jù)重要位置,。
01
啟動模塊
啟動模塊的作用自然是來啟動芯片工作的,因為上電瞬間有可能所有晶體管電流為0并維持不變,,這樣沒法工作,。啟動電路的作用就是相當于“點個火”,然后再關閉,。
如圖8:上電瞬間,,S3自然是打開的,然后S2打開可以打開M4 Q1等,,就打開了M1 M2,,右邊恒流源電路正常工作,S1也打開了,,就把S2給關閉了,,完成啟動。如果沒有S1 S2 S3,,瞬間所有晶體管電流為0,。
圖8
02
過壓保護模塊OVP
很好理解,輸入電壓太高時,,通過開關管來關斷輸出,,避免損壞,通過比較器可以設置一個保護點,。
圖9
03
過溫保護模塊OTP
溫度保護是為了防止芯片異常高溫損壞,,原理比較簡單,利用晶體管的溫度特性然后通過比較器設置保護點來關斷輸出,。
圖10
04
過流保護模塊OCP
在譬如輸出短路的情況下,,通過檢測輸出電流來反饋控制輸出管的狀態(tài),可以關斷或者限流。如圖11的電流采樣,,利用晶體管的電流和面積成正比來采樣,,一般采樣管Q2的面積會是輸出管面積的千分之一,然后通過電壓比較器來控制MOS管的驅動,。
圖11
還有一些其他輔助模塊設計,。
恒流源和電流鏡
在IC內(nèi)部,如何來設置每一個晶體管的工作狀態(tài),,就是通過偏置電流,。恒流源電路可以說是所有電路的基石,帶隙基準也是因此產(chǎn)生的,。然后通過電流鏡來為每一個功能模塊提供電流,;電流鏡就是通過晶體管的面積來設置需要的電流大小,類似鏡像,。
圖12
圖13
結 語
以上大概就是一顆DC/DC電源芯片LM2675的內(nèi)部全部結構,,也算是把以前的皮毛知識復習了一下。
當然,,這只是原理上的基本架構,,具體設計時還要考慮非常多的參數(shù)特性,需要作大量的分析和仿真,,而且必須要對半導體工藝參數(shù)有很深的理解,,因為制造工藝決定了晶體管的很多參數(shù)和性能,一不小心出來的芯片就有缺陷甚至根本沒法應用,。
整個芯片設計也是一個比較復雜的系統(tǒng)工程,要求很好的理論知識和實踐經(jīng)驗,。后,,學而時習之,不亦說乎,!
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