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等離子體光譜診斷解決方案
薄膜材料因其在多個(gè)方面的性能，使得應(yīng)用十分廣泛,，薄膜的制備有多種方法,，磁控濺射法是當(dāng)今制備薄膜比較常用的一種方法。而用磁控濺射法制備出高質(zhì)量薄膜的關(guān)鍵是薄膜生長過程中的工藝參數(shù)選擇與穩(wěn)定性控制,。為此在薄膜生長中的工藝參數(shù)對(duì)薄膜的各種性能影響方面做了 探討與研究,，如采用真空濺射鍍膜技術(shù)在鎳鋅鐵氧基片上制備了Cr/Ni-Cu/Ag結(jié)構(gòu)的金屬化復(fù)合薄膜，分析了濺射功率,，靶基間距和濺射氣壓等工藝參數(shù)對(duì)薄膜性能的影響,，并得出好的實(shí)驗(yàn)條件。
等離子體發(fā)射光譜研究是了解放電條件下氣體狀態(tài)的有效手段和用于無干擾診斷等離子體狀態(tài)參數(shù)的方法,。它為研究不同實(shí)驗(yàn)參數(shù)下的等離子體行為提供了一種很好的方法,。通過采集射頻磁控濺射過程中等離子體發(fā)射光譜，可以計(jì)算出電子密度和電子溫度,，并且能夠分析濺射功率,、工作壓強(qiáng)等實(shí)驗(yàn)參數(shù)對(duì)等離子體狀態(tài)的影響。
荷蘭Avantes公司的AvaSpec-ULS2048高分辨率,、多通道光纖光譜儀,，波長范圍200-1100nm，光譜分辨率（FWHM）0.1nm,。下圖是氮分子（N2）的發(fā)射光譜數(shù)據(jù),。
焊接等離子體光譜診斷
隨著現(xiàn)代焊接技術(shù)的發(fā)展，焊接機(jī)器人等化生產(chǎn)手段得到廣泛地應(yīng)用,，因此對(duì)焊接質(zhì)量檢測(cè)與控制越來越重要,。焊接電弧光譜由于其自身信息量大、信噪比高,、介入性小,、測(cè)控精度高等特點(diǎn)，在一些場(chǎng)合得到成功應(yīng)用，如利用電弧弧光信息測(cè)控TIG焊電弧的弧長,，精度可達(dá)到0.2mm,，與傳統(tǒng)的弧壓測(cè)控方法相比具有明顯的優(yōu)勢(shì)。電弧光譜的應(yīng)用領(lǐng)域還包括：電弧防護(hù),、光譜法測(cè)定電弧的溫度場(chǎng),、氣體成分及濃度的測(cè)定與控制等。上述領(lǐng)域研究與電弧光譜自身輻射特性具有密切,，而焊接參數(shù)是焊接過程中影響電弧光譜的主要因素之一,，因此對(duì)于不同焊接參數(shù)下電弧光譜輻射及其變化特點(diǎn)的研究非常重要。
焊接光譜信息的采集和分析系統(tǒng)使用荷蘭Avantes公司的AvaSpec-ULS3648高分辨率,、多通道（多10個(gè)通道）光纖光譜儀,，波長范圍200-1100nm，光譜分辨率（FWHM）高可達(dá)0.05nm,，光譜采樣間隔0.02nm,。1分多光纖束了光譜信號(hào)采集在時(shí)間和空間上的同步性。
