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布魯克 紅外顯微鏡(IR)在半導(dǎo)體行業(yè)檢測應(yīng)用

時(shí)間:2024-11-26 閱讀:481
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 電子設(shè)備在當(dāng)今的現(xiàn)代技術(shù)中非常普遍,。每個(gè)人在使用電子設(shè)備時(shí)都可能間接遇到并使用過硅片,。晶片是一種用于制造電子集成電路的薄半導(dǎo)體材料襯底。有各種類型的半導(dǎo)體材料,,并且在電子器件中的半導(dǎo)體材料是硅(Si),。硅片是集成電路的重要組成部分。它是通過切割高純度,、幾乎無缺陷的單晶硅棒制成的,,用作制造晶圓內(nèi)部和表面微電子器件的襯底。硅片在生長,、切割,、研磨、蝕刻和拋光過程中積累殘余應(yīng)力,。因此,,硅片在整個(gè)制造過程中可能會(huì)產(chǎn)生裂紋。如果沒有檢測到裂紋,,那些含有裂紋的晶片將在隨后的生產(chǎn)階段產(chǎn)生無用的產(chǎn)品,。當(dāng)將集成電路劃分為單獨(dú)的IC時(shí),也可能出現(xiàn)裂縫,。因此,為了降低制造成本,,在進(jìn)一步加工之前,,在加工過程中檢查原材料基底是否有雜質(zhì)、裂紋并檢測缺陷是非常重要的,。

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布魯克LUMOS II傅立葉變換紅外顯微鏡

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近紅外通常被定義為700-1600nm波長范圍內(nèi)的光,。由于硅傳感器的上限約為1100nm,砷化銦鎵(InGaAs)傳感器是近紅外中使用的主要傳感器,,覆蓋了典型的近紅外頻帶,。由于可見光的廣泛使用而難以或不可能實(shí)現(xiàn)的應(yīng)用可以通過近紅外成像來實(shí)現(xiàn),。當(dāng)使用近紅外成像時(shí),水蒸氣,、霧和硅等特定材料都是透明的,,因此紅外顯微鏡應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)的各個(gè)方面。

布魯克LUMOS II系列紅外顯微鏡配置IR專用物鏡可用于透過硅材料成像,,進(jìn)行半導(dǎo)體檢查和測量,。配備5X至100X紅外(IR)物鏡,可提供從可見光波長到近紅外波長的像差校正,。對(duì)于高倍率物鏡,,配備了帶校正環(huán)的LCPLN-IR系列物鏡,以校正由樣品厚度引起的像差,。使用一個(gè)物鏡可以獲得清晰的圖像,。

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