近日,，上海大學(xué)生命科學(xué)學(xué)院 OS1p便攜式葉綠素?zé)晒鈨x順利完成安裝驗(yàn)收, 該儀器可用于協(xié)助監(jiān)測高溫脅迫對作物生長的影響。研究作物高溫傷害及其生理生化基礎(chǔ),，將有助于采取相應(yīng)措施減輕高溫危害,，并為篩選抗高溫基因型提供有效的途徑。選育抗高溫品種并輔以配套技術(shù)措施,，對抵御高溫逆境尤為重要。
Goss和Lepetit（2015）使用光保護(hù)性成分qE,、qM鑒定抗性品種,。許多科學(xué)家提出了NPQ四分量的計(jì)算方法，并利用它們進(jìn)行抗性品種的篩選（Maxwell and Johnson 2000,，Guadagno et al.2010，Rohá?ek2010,，Kasajima et al.2015,，Tietz et al.2017）。
圖1：現(xiàn)場安裝圖片
葉綠素?zé)晒庾鳛樽魑锏墓夂咸匦詤?shù)可以直觀快速的反應(yīng)其高溫抗性,，其中：
（1） 最大光化學(xué)效率Fv/Fm對45o C以上高溫比較敏感。（Haldiman P,，＆Feller U. 2004）（Schreiber U. 2004），（Baker and Rosenqvist 2004）（Crafts-Brander and Law 2000）,。
（2） 實(shí)際光量子產(chǎn)量Y（II）是一種光適應(yīng)快速檢測,，大約需要兩秒鐘。 Y（II）是用于快速測量高溫脅迫的最敏感的葉綠素?zé)晒鈪?shù),?？梢詸z測到約 35℃或更高溫度下的熱脅迫（Haldiman P，＆Feller U.2004）,，（Dascaliuc A.，Ralea t.,，Cuza P.,，2007）,。 在測量 Y（II）時(shí)需要使用 PAR 葉夾,，因?yàn)閿?shù)值會(huì)隨光強(qiáng)而變化，PAR 葉夾會(huì)根據(jù)葉片的位置和角度測量葉片溫度和接收到 PAR,。
3） 非光化學(xué)淬滅NPQ --- 是一項(xiàng)需要大約二十到三十五分鐘或整夜暗適應(yīng)的檢測,。淬滅參數(shù)檢測適用于溫度高于 35℃的中度高溫脅迫，如監(jiān)測高溫環(huán)境下橡木 - 桉樹的 NPQ 和 qP（Haldiman P,，＆Feller U. 2004）,， 菠菜的中度高溫脅迫。 （Tang Y.,，Wen X.,，Lu Q.，Yang Z.,，Cheng Z.,，＆Lu C. 2007）。
OS1p作為一款高級(jí)便攜式研究型葉綠素?zé)晒鈨x,，可以測量如下葉綠素?zé)晒鈪?shù)：
? Fv/Fm，Y(II),，ETR,，PAR，葉片溫度,，RLC（ETRmax，Im,，Ik& a）,
? Kramer lake 淬滅模型（Y(NPQ), Y(NO), Y(II), qL , & ETR）
? Hendrickson lake淬滅模型（NPQ, Y(NPQ), Y(NO), Y(II) & ETR）
? Baker puddle模型（qP , qN , & NPQ）
? 淬滅弛豫（葉黃素循環(huán)qE、狀態(tài)轉(zhuǎn)換qT,、葉綠體遷移qM &光抑制 qI）
其中淬滅弛豫參數(shù)（qE,、qT、qM & qI）是非光化學(xué)淬滅NPQ的四個(gè)分量,，精確計(jì)算四個(gè)分量有助于從光能利用的角度深層次研究植物的抗性機(jī)理,。qE和qM可用于評估光保護(hù)性能,，qI是光合作用的光抑制作用,，反應(yīng)植物對環(huán)境脅迫的保護(hù)性調(diào)節(jié),，qT是改變進(jìn)入光系統(tǒng)I和光系統(tǒng)II反應(yīng)中心的能量流平衡的過程,，反應(yīng)植物對光能的利用能力,。
Goss和Lepetit（2015）使用光保護(hù)性成分qE、qM鑒定抗性品種。許多科學(xué)家提出了NPQ四分量的計(jì)算方法,，并利用它們進(jìn)行抗性品種的篩選（Maxwell and Johnson 2000,，Guadagno et al.2010，Rohá?ek2010,，Kasajima et al.2015,，Tietz et al.2017）。
與同類產(chǎn)品相比,，優(yōu)勢如下：
（1） 長時(shí)間淬滅測量過程中可保持“穩(wěn)定"光化光強(qiáng)輸出；
（2） 內(nèi)置多相飽和光閃校正程序,，確保高光照條件下也可以測得準(zhǔn)確的Fm’和Y(II),；
（3） 可以測量非光化學(xué)淬滅NPQ的全部組分（qE,、qM,、qT）,；
（4） 自動(dòng)設(shè)置調(diào)制光強(qiáng),，降低人為操作誤差,；
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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