光柵光譜儀的相關(guān)介紹
光柵光譜儀,,是將成分復(fù)雜的光分解為光譜線的科學(xué)儀器,。通過光譜儀對光信息的抓取、以照相底片顯影,,或電腦化自動顯示數(shù)值儀器顯示和分析,,從而測知物品中含有何種元素。光柵光譜儀被廣泛應(yīng)用于顏色測量,、化學(xué)成份的濃度測量或輻射度學(xué)分析,、膜厚測量、氣體成分分析等領(lǐng)域中,。
光柵作為重要的分光器件,,它的選擇與性能直接影響整個系統(tǒng)性能。為更好協(xié)助各位使用者選擇,,在此做一簡要介紹,。
光柵分為刻劃光柵、復(fù)制光柵,、全息光柵等,。刻劃光柵是用鉆石刻刀在涂薄金屬表面機(jī)械刻劃而成,;復(fù)制光柵是用母光柵復(fù)制而成,。典型刻劃光柵和復(fù)制光柵的刻槽是三角形。全息光柵是由激光干涉條紋光刻而成,。全息光柵通常包括正弦刻槽,。刻劃光柵具有衍射效率高的特點,,全息光柵光譜范圍廣,,雜散光低,且可作到高光譜分辨率,。
光柵光譜儀光柵方程
反射式衍射光柵是在襯底上周期地刻劃很多微細(xì)的刻槽,,一系列平行刻槽的間隔與波長相當(dāng),光柵表面涂上一層高反射率金屬膜,。光柵溝槽表面反射的輻射相互作用產(chǎn)生衍射和干涉,。對某波長,在大多數(shù)方向消失,,只在一定的有限方向出現(xiàn),,這些方向確定了衍射級次,。光柵刻槽垂直輻射入射平面,,輻射與光柵法線入射角為α,衍射角為β,,衍射級次為m,,d為刻槽間距,,在下述條件下得到干涉的極大值:Mλ=d(sinα+sinβ)
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