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光柵光譜儀選擇光柵要考慮的因素

光柵光譜儀,，是將成分復雜的光分解為光譜線的科學儀器,。通過光譜儀對光信息的抓取、以照相底片顯影,，或電腦化自動顯示數(shù)值儀器顯示和分析,，從而測知物品中含有何種元素。光柵光譜儀被廣泛應用于顏色測量,、化學成份的濃度測量或輻射度學分析,、膜厚測量、氣體成分分析等領(lǐng)域中,。

光柵基礎(chǔ)

光柵作為重要的分光器件,，它的選擇與性能直接影響整個系統(tǒng)性能。為更好協(xié)助各位使用者選擇,，在此做一簡要介紹,。

光柵分為刻劃光柵、復制光柵,、全息光柵等,。刻劃光柵是用鉆石刻刀在涂薄金屬表面機械刻劃而成,；復制光柵是用母光柵復制而成,。典型刻劃光柵和復制光柵的刻槽是三角形。全息光柵是由激光干涉條紋光刻而成,。全息光柵通常包括正弦刻槽,。刻劃光柵具有衍射效率高的特點,，全息光柵光譜范圍廣,，雜散光低,，且可作到高光譜分辨率。

選擇光柵要考慮的因素

1,、光柵刻線,，光柵刻線多少直接關(guān)系到光譜分辨率，刻線多光譜分辨率高,，刻線少光譜覆蓋范圍寬,，兩者要根據(jù)實驗靈活選擇。

2,、閃耀波長,，閃耀波長為光柵zui大衍射效率點，因此選擇光柵時應盡量選擇閃耀波長在實驗需要波長附近,。如實驗為可見光范圍,，可選擇閃耀波長為500nm。

3,、光柵效率,，光柵效率是衍射到給定級次的單色光與入射單色光的比值。光柵效率愈高,，信號損失愈小,。為提高此效率，除提高光柵制作工藝外,，還采用特殊鍍膜,，提高反射效率。