GD-Profiler 2射頻輝光放電光譜儀是一款可進(jìn)行超快鍍層分析的理想工具，非常適合于導(dǎo)體（和/或）非導(dǎo)體復(fù)合鍍層的分析,?？煞治?0多種元素，其中包括C,、H,、O、N和Cl,。一次測(cè)試可輕松獲取鍍層元素深度分布,、鍍層厚度、鍍層均一性及表面/界面等信息,。
    GD-Profiler 2可分析幾納米到200微米的深度,，深度分辨率小于1納米。GD-Profiler 2采用了脈沖式射頻輝光源,，可有效分析熱導(dǎo)性能差以及熱敏感的樣品,。此外,，還采用了多項(xiàng)技術(shù)，如高動(dòng)態(tài)檢測(cè)器（HDD）可測(cè)試ppm-100%的濃度范圍,，Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等,。主要應(yīng)用領(lǐng)域包括鍍鋅鋼板、彩涂板,、新型半導(dǎo)體材料,、LED晶片、硬盤,、有機(jī)鍍層,、鋰電池、玻璃,、陶瓷等等,。

GD-Profiler 2射頻輝光放電光譜儀技術(shù)參數(shù)：

1、射頻發(fā)生器-標(biāo)準(zhǔn)配置,、復(fù)合D級(jí)標(biāo)準(zhǔn),、穩(wěn)定性高、濺射束斑為平坦,、等離子體穩(wěn)定時(shí)間短,，表面信息無任何失真。

2,、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜,，也可以很好地分析熱導(dǎo)性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。

3,、Polyscan多道（同時(shí)）光譜儀可全譜覆蓋,，光譜范圍從110nm-800nm，可測(cè)試遠(yuǎn)紫外元素C,、H,、O、N和Cl,。

4,、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有zui大的光通量，因而擁有的光效率和靈敏度,。

5,、高動(dòng)態(tài)檢測(cè)器（HDD）可快速、高靈敏的檢測(cè)ppm-100%含量的元素,。動(dòng)態(tài)范圍為5×10¹⁰,。

6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載,。

7,、功能強(qiáng)大的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測(cè)報(bào)告。

8,、HORIBA*的單色儀（選配）可大地提高儀器靈活性,，可實(shí)現(xiàn)固定通道外任意一個(gè)元素的同步測(cè)試，稱為n+1,。

9,、適用于ISO14707和16962標(biāo)準(zhǔn)。

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