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露點儀的原理及技術(shù)進展

時間:2016-8-19閱讀:2608
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 1. 冷鏡式露點儀
  不同水份含量的氣體在不同溫度下的鏡面上會結(jié)露,。采用光電檢測技術(shù),,檢測出露層并測量結(jié)露時的溫度,,直接顯示露點,。鏡面制冷的方法有:半導體制冷,、液氮制冷和高壓空氣制冷。冷鏡式露點儀采用的是直接測量方法,,在保證檢露準確,、鏡面制冷率和精密測量結(jié)露溫度前提下,該種露點儀可作為標準露點儀使用,。目前上zui高精度達到±0.1℃(露點溫度),,如歐伯特公司的S8000,S4000,、Optidew Vision,、Optidew等,一般精度可達到±0.5℃以內(nèi),。如MBW公司的373,。
2. 電傳感器式 露電儀采用親水性材料或憎水性材料作為介質(zhì),構(gòu)成電容或電阻,,在含水份的氣體流經(jīng)后,,介電常數(shù)或電導率發(fā)生相應(yīng)變化,測出當時的電容值或電阻值,,就能知道當時的氣體水份含量,。建立在露點單位制上設(shè)計的該類傳感器,構(gòu)成了電傳感器式露點分析儀,。目前上zui高精度達到±1.0℃(露點溫度),,如MICHELL公司的EASIDEW ON-LING,CERMX II,、一般精度可達到±3℃以內(nèi),。如MICHELL公司EAS-TX-80,EAS-TX-100,,EA2-TX-100-HD,,MDM300,EASIDEW PRO IS等,,還有VAISALA公司的DMT242,、DMT143,DMT340系列,。
3. 電介法露點儀 利用五氧化二磷等材料吸濕后分解成極性分子,,從而在電極上積累電荷的特性,設(shè)計出建立在含濕量單位制上的電解法微水份儀,。目前上zui高精度達到±1.0℃(露點溫度),,一般精度可達到±3℃以內(nèi)。此種方式對氣體的潔凈要求比較高,可測腐蝕性氣體,,德國有一家公司有做,目前國內(nèi)應(yīng)用不多,。  
4. 晶體振蕩式露點儀利用晶體沾濕后振蕩頻率改變的特性,,可以設(shè)計晶體振蕩式露點儀。這是一項較新的技術(shù),,目前尚處于不十分成熟的階段,。國外有相關(guān)產(chǎn)品,但精度較差且成本很高,。如美國AMETEKPI公司的和英國MIHCELL公司的都不錯,,就是價格比較貴。
5. 紅外露點儀   利用氣體中的水份對紅外光譜吸收的特性,,可以設(shè)計紅外式露點儀,。目前該儀器很難測到低露點,主要是紅外探測器的峰值探測率還不能達到微量水吸收的量級,,還有氣體中其他成份含量對紅外光譜吸收的干擾,。但這是一項很新的技術(shù),對于環(huán)境氣體水份含量的非接觸式在線監(jiān)測具有重要的意義,。如美國米科公司的都挺好,。
6. 半導體傳感器露點儀每個水分子都具有其自然振動頻率,當它進入半導體晶格的空隙時,,就和受到充電激勵的晶格產(chǎn)生共振,,其共振頻率與水的摩爾數(shù)成正比。水分子的共振能使半導體結(jié)放出自由電子,,從而使晶格的導電率增大,,阻抗減小。利用這一特性設(shè)計的半導體露點儀可測到-100℃露點的微量水份,。露點儀的原理及技術(shù)的綜合評估 隨著現(xiàn)代科學技術(shù)的發(fā)展,,人們紛紛把光電技術(shù)、新材料技術(shù),、紅外技術(shù),、微波技術(shù)、微電子技術(shù),、光纖技術(shù),、聲波技術(shù)甚至納米技術(shù)應(yīng)用到氣體中水份的測量,使水份測量這一古老領(lǐng)域煥發(fā)出青春,。在測量原理上,,技術(shù)人員認定 鏡面結(jié)露 的方法是zui直接且精度zui高的方法。鏡面露點儀在技術(shù)上將引進近代技術(shù)成份。如我們研制的冷鏡式激光露點儀采用了激光準直技術(shù)和CCD技術(shù),,在露層判別,、露霜圖像識別技術(shù)上走到了世界前沿。專業(yè)人員在傳統(tǒng)的傳感器材料研究(如氧化鋁材料,、氯化鋰材料,、高分子材料和陶瓷材料)基礎(chǔ)上,用*不同的技術(shù)手段,,陸續(xù)發(fā)展出許多間接測量氣體中微量水份的方式方法,,解決了不同領(lǐng)域和不同環(huán)境中的微水份測量問題。氣體中微量水份的測量歷來是較難的一門技術(shù),??梢哉f,直到現(xiàn)在上還沒有一種成熟完善的技術(shù)手段能全面解決各種工況環(huán)境下微量水的測量問題,。在應(yīng)用了近代技術(shù)之后,,也只能說針對某一特定環(huán)境,采用某一項技術(shù)手段,,解決某種程度(包括量程和精度)的微水份測量問題,。因此,微水份測量技術(shù)的發(fā)展前景還十分廣闊,,專業(yè)技術(shù)人員要走的路還很長,。 

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