![]() |
北京慧龍環(huán)科環(huán)境儀器有限公司
主營產(chǎn)品: 奧立龍水質(zhì)分析儀,WTW水質(zhì)分析儀 |
![](/NewShowStand/style/15/Images/Green/中級(jí)會(huì)員.png)
聯(lián)系電話
18911758155
公司信息
- 聯(lián)系人:
- 慧龍環(huán)科
- 電話:
- 010-69200960/010-59483667
- 手機(jī):
- 18911758155,18910319870
- 售后電話:
- 18911758156
- 傳真:
- 010-60298459
- 地址:
- 北京市房山區(qū)良鄉(xiāng)西潞南大街14號(hào)樓
- 郵編:
- 102488
- 個(gè)性化:
- www.170086.com
- 手機(jī)站:
- m.170086.com
- 網(wǎng)址:
- www.170086.com
參考價(jià) | 面議 |
- 型號(hào) VTC-5RF
- 品牌 合肥科晶
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 所在地 國外
更新時(shí)間:2022-11-21 10:01:20瀏覽次數(shù):1396
聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,,謝謝!
VTC-5RF五靶頭等離子射頻磁控濺射儀
產(chǎn)品概述:
VTC-5RF五靶頭等離子射頻磁控濺射儀是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀,,針對(duì)于高通量MGI(材料基因組計(jì)劃)薄膜的研究,。特別適合用于探索固態(tài)電解質(zhì)材料,通過5種元素,,按16種不同配比組合,。
主要特點(diǎn):
- 多種濺射靶頭及電源可選,自由組合,,具體請(qǐng)致電我公司銷售部,。
- 根據(jù)所使用的電源(DC或RF),可以沉積金屬或非金屬材料,。
- 一個(gè)旋轉(zhuǎn)開關(guān)可以依次激活濺射頭,,可在真空或等離子體環(huán)境中自動(dòng)切換,不影響真空度,。
- 可以安裝五種不同材料的靶材,,每個(gè)靶頭可單獨(dú)設(shè)置濺射時(shí)間功率等參數(shù),用于生長不同成分的薄膜,。
- 可選購多個(gè)射頻電源,,同一時(shí)間濺射多個(gè)靶材。
- 可選配設(shè)備控制軟件,,用電腦控制濺射的所有參數(shù),。
濺射腔體:
- 真空腔體采用304不銹鋼制作
- 腔體內(nèi)部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H (105 L)
- 鉸鏈?zhǔn)角婚T,直徑為Φ380mm,上面安裝有Φ150mm的玻璃窗口
濺射頭&樣品臺(tái):
- 5個(gè)1英寸的磁控濺射頭,,帶有水冷夾層
- 濺射腔體內(nèi)安裝有電動(dòng)擋板
- 濺射距離:濺射距離可調(diào)
- 濺射角度:濺射角度可調(diào)
- 實(shí)驗(yàn)時(shí),,需要將靶材和靶材的銅墊片用導(dǎo)電銀漿粘合粘合,(可在本公司購買導(dǎo)電銀漿)
- 可以單獨(dú)訂購RF連接線作為備用
- 設(shè)備需要一臺(tái)水冷機(jī),,用于靶頭冷卻
樣品臺(tái):
- 直徑為150mm的樣品臺(tái),,上面覆蓋一旋轉(zhuǎn)臺(tái),帶有10mm的孔洞,,每次露出一個(gè)樣品接收濺射成膜,。
- 樣品臺(tái)尺寸:Φ150mm,可通過程序控制來旋轉(zhuǎn),可制作16種不同組分的薄膜
- 樣品臺(tái)可以加熱,,高溫度可達(dá)600℃(根據(jù)配置不同可能會(huì)有變動(dòng),具體請(qǐng)咨詢銷售部)
真空系統(tǒng):
- 安裝有KF40真空接口
- 真空度:4.0e-5Torr(分子泵)(參考值,,具體請(qǐng)點(diǎn)擊)
- 可在本公司選購各種真空泵
進(jìn)氣:
- 設(shè)備上配1/4英寸進(jìn)氣口方便連接氣瓶
- 設(shè)備前面板上裝有一氣流調(diào)節(jié)旋鈕,,方便調(diào)節(jié)氣流
靶材:
- 所要求靶材尺寸:直徑為25mm,大厚度3mm
- 可在本公司選購各種靶材
薄膜測(cè)厚儀(可選):可在本公司選購薄膜測(cè)厚儀安裝在濺射儀上
凈重:60Kg(不包括泵)
質(zhì)量認(rèn)證:CE認(rèn)證
使用提示:
- 此設(shè)備為DIY設(shè)備,參數(shù)變化較大購買前請(qǐng)務(wù)必電話仔細(xì)溝通
- 為了得到的薄膜質(zhì)量,,必須通入高純氣體(建議> 5N)
- 在濺射鍍膜前,,確保濺射頭、靶材,、基片和樣品臺(tái)的潔凈
- 要達(dá)到薄膜與基底良好結(jié)合,,請(qǐng)?jiān)跒R射前清潔基材表面
- 超聲波清洗(詳細(xì)參數(shù)點(diǎn)擊下面圖片):(1)丙酮超聲(2)異丙醇超聲-去除油脂(3)吹氮?dú)飧稍铮?)真空烘箱除去水分,。
- 等離子清洗(詳細(xì)參數(shù)點(diǎn)擊下面圖片):可表面粗糙化,可激活表面化學(xué)鍵,,可祛除額外的污染物,。
- 制造一個(gè)薄的緩沖層(5納米左右):如Gr,Ti,,Mo,,Ta,可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力,。
警告:
- 注意:產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件,,禁止私自拆裝,帶電移動(dòng)機(jī)體,。
- 氣瓶上應(yīng)安裝減壓閥(設(shè)備標(biāo)配不包括),,保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕
以下,以安全使用,。
- 濺射頭連接到高電壓,。為了安全,操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶