標(biāo)準(zhǔn)石墨管是一個(gè)石墨模具廠電阻加熱器，是原子吸收分光光度計(jì)用無(wú)焰原子化器的一種,。1959年蘇聯(lián)物理學(xué)家?.B.利沃夫首先將原子發(fā)射光譜法中石墨爐蒸發(fā)的原理用于原子吸收光譜法中,，開創(chuàng)了無(wú)焰原子化方式。石墨模具廠石墨爐的核心部件是一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)石墨管,，試樣用微量進(jìn)樣孔注入石墨管內(nèi),，經(jīng)管兩端的電極向石墨管供電，高溫度可達(dá)3000℃,，試樣在石墨管中原子化,。由于原子化效率高，石墨爐法的相對(duì)靈敏度可達(dá)10-9-10-12g/ml,，適合痕量分析,。目前，為改進(jìn)石墨爐性能，提高抗干擾能力,，正在開發(fā)以貴重金屬做襯里和涂層的新石墨爐,。
標(biāo)準(zhǔn)石墨管原理：是將樣品用進(jìn)樣器定量注入到石墨管中,，并以石墨模具廠作為電阻發(fā)熱體,，通電后迅速升溫，使試樣達(dá)到原子化的目的,。它由加熱電源,、保護(hù)氣控制系統(tǒng)和石墨管狀爐組成。外電源加于石墨管兩端,，供給原子化器能量,，電流通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)石墨管產(chǎn)生高達(dá)3000℃的溫度，使置于石墨管中被測(cè)元素變?yōu)榛鶓B(tài)原子蒸氣,。保護(hù)氣控制系統(tǒng)是控制保護(hù)氣的,，儀器啟動(dòng)，保護(hù)氣Ar氣流通,，空燒完畢,，切斷Ar氣流。石墨模具廠外氣路中的Ar氣沿石墨管外壁流動(dòng),，以保護(hù)石墨管不被燒蝕,，內(nèi)路的Ar氣從管兩端流向管中心，由管中心孔流出,，以有效地除去在干燥和灰化過(guò)程中產(chǎn)生的基體蒸氣,，同時(shí)保護(hù)已經(jīng)原子化了的原子不再被氧化。
在原子化階段,，停止通氣,，以延長(zhǎng)原子在吸收區(qū)內(nèi)的平均停留時(shí)間，避免對(duì)原子蒸氣的稀釋,。在石墨爐原子化系統(tǒng)中,，火焰被置于氬氣環(huán)境下的電加熱石墨管所代替。氬氣可防止石 墨管在高溫狀態(tài)下迅速氧化并在干燥,、灰化階段將基體組份及其它干擾物質(zhì)從光路中除 去,。少量樣品（1至70 mL, 通常在 20 mL左右）被加入熱解涂層石墨管中。石墨模具廠石墨管上的熱解涂層可有效防止石墨管的氧化,，從 而延長(zhǎng)石墨管的使用壽命,。同時(shí)，涂層也可防止樣品侵入石墨管從而提高靈敏度和重復(fù) 性,。 石墨管被電流加熱,，電流的大小由可編程控制電路控制，從而在加熱過(guò)程中可按 一系列升溫步驟對(duì)標(biāo)準(zhǔn)石墨管中的樣品進(jìn)行加熱，達(dá)到除去溶劑和大多數(shù)基體組份然后將樣 品原子化產(chǎn)生基態(tài)自由原子,。分子的分解情況取決于原子化溫度,、加熱速率及熱石墨管 管壁周圍環(huán)境等因素。
標(biāo)準(zhǔn)石墨管中的樣品得以*原子化,，并在光路中滯留較長(zhǎng)時(shí)間（相對(duì)火焰法而言）,。因而該方法可是靈敏度大大提高，使檢出限降低到ppb級(jí),。主要原因石墨模具廠在測(cè)量時(shí),，溶劑不復(fù)存在，也沒(méi)有火焰原子化系統(tǒng)那樣,，樣品被氣體稀釋的情況出現(xiàn),。雖然基態(tài)自由原子仍然 會(huì)被干擾，但卻呈現(xiàn)出與火焰原子化系統(tǒng)所不同的特性,。通過(guò)正確地選擇分析條件,、化 學(xué)基體改進(jìn)劑更易于控制石墨爐原子化過(guò)程。由于采用石墨爐技術(shù)可對(duì)眾多基體類型的 樣品進(jìn)行直接分析,，從而可減少樣品制備過(guò)程所帶來(lái)的誤差,。
會(huì)員.png)
15
立即詢價(jià)
您提交后,，專屬客服將第一時(shí)間為您服務(wù)