射頻磁控濺射鍍膜裝置 型號(hào)：DP-RM-1

主要用途：本設(shè)備主要用于大專(zhuān)院校研究和開(kāi)發(fā)納米級(jí)單層膜,；如各種硬質(zhì)膜,、金屬膜；也可以是非金屬,、化合物等薄膜材料,。可以行直接濺射,，亦可以實(shí)現(xiàn)反應(yīng)濺射,。

主要特點(diǎn)：結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)捷、操作簡(jiǎn)便,，真空度維護(hù),，安可靠。

鍍膜機(jī)應(yīng)安裝在干凈無(wú)塵埃,、無(wú)腐蝕性氣體的室內(nèi),，并具備清潔水源、及220V的穩(wěn)定電壓等條件的地方,。

1,、地面的基本水平度要經(jīng)過(guò)調(diào)整，不得低不平,；

2、環(huán)境溫度：10℃～30℃,；

3,、相對(duì)濕度：不大于75%；

4,、耗水量（水溫度≤25℃,，2.5Kg≥水壓≥1.5Kg）：約0.2T/h；

5,、水質(zhì)要求：

矽酸硬度<6度,，PH值：7－8，電導(dǎo)率：200us/cm,沉積率：<200mg/L。

6,、電壓： 220V,，50H_Z，

電壓波動(dòng)范圍： 198～231V,；

頻率波動(dòng)范圍：49～51Hz;

7,、水壓：0.3～1Kg/cm²或0.03～0.1MPa/cm²;

8、充入氣體純度99.9%或以上;

9,、鍍膜用耗材純度99.9%或以上,。

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