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用途：主要用于核酸、蛋白質(zhì)電泳觀察,、照像和實驗結果科學分析,。 特點：暗箱式，無需暗室,，可全天候使用,；*抽屜式燈箱互換,，使用方便,，防止污染；*具有實時預覽,、手動對...

基本參數(shù)外形尺寸(L×W×H)：490×360×430mm反射紫外光源波長：254nm,、365nm透射紫外光源波長：300nm紫外光透射面積：150×200mm...

外形尺寸(L×W×H)：490×360×430mm反射紫外光源波長：254nm、365nm反射紫外燈的功率：28W透射紫外光源波長：300nm透射紫外燈的功率：...

全封閉不銹鋼組成,。 滾筒中心距:310mm 砂帶寬度:100mm長度:920mm 轉(zhuǎn)速:1400 r/min480米/分鐘 電動機:380V/50Hz

上半截均由不銹鋼材料制成,。 轉(zhuǎn)速:1450 r/min砂輪規(guī)格:350x40x40mm電動機:380V/50Hz/3kw外形尺寸:900x600x950mm 重...

機身噴塑,積污盤和蓋板不銹鋼。 轉(zhuǎn)速:1400 r/min砂輪規(guī)格:250x30x32mm電動機:380V/50Hz/750W外形尺寸:730x420x360m...

集污盤和罩用玻璃鋼整體制成,。 磨盤直徑:250mm 砂紙直徑:230mm 拋盤直徑:220mm 轉(zhuǎn)速:500r/min 1000r/min

四速金相試樣磨拋機,。 磨盤直徑:250mm 拋盤直徑:220mm 轉(zhuǎn)速1000/500 r/min 600/300 r/min電動機:YSD802-4/8 02...

集污盤和罩采用玻璃鋼整體制成,磨、拋,、研盤的轉(zhuǎn)速獨立操作,可無級調(diào)速,。 磨盤直徑:250mm 砂紙直徑:230mm 拋盤直徑:220mm 研磨盤直徑:220mm...

集污盤和罩用玻璃鋼整體制成。 轉(zhuǎn)速:500/1000r/min選配:400/800r/min 300/600r/min200/400r/min砂紙直徑:230m...

集污盤和罩采用玻璃鋼整體制成,無級調(diào)速,。 砂紙直徑:230mm 磨盤直徑:250mm 拋盤直徑:220mm 研盤直徑:220mm 轉(zhuǎn)速:50-1400 r/mi...

適用于巖相標本和金相試樣的磨拋工序,無級調(diào)速,集污盤,、罩、蓋均采用不銹鋼材料,。 砂紙直徑:230mm 拋盤直徑:220mm 轉(zhuǎn)速:50~1400r/min(無級...

無級調(diào)速磨拋機,機架整體和集污盤,、罩、蓋等均采用不銹鋼板制成,。 磨盤直徑:250mm 砂紙直徑:230mm 拋盤直徑:220mm轉(zhuǎn)速:50～1400r/min ...

金相試樣磨拋機MP-2B(部分不銹鋼) 雙盤三速 集污盤,、罩、蓋等均采用不銹鋼板,。 磨盤直徑:250mm 砂紙直徑:230mm 拋盤直徑:220mm 轉(zhuǎn)速:70...

雙盤三速 集污盤,、罩、蓋等均采用不銹鋼板,。 磨盤直徑:250mm 砂紙直徑:230mm 拋盤直徑:220mm 轉(zhuǎn)速:700/900/1400r/min電動機:A...

上海銀澤儀器設備有限公司供應MP-1B金相試樣磨拋機,，歡迎廣大新老客戶。

變頻無級變速,積污盤,、罩,、蓋均由不銹鋼材料制成,。 磨盤直徑:250mm 砂紙直徑:230mm 拋盤直徑:220mm 轉(zhuǎn)速:50～1000 r/min(無級) 電...

臺式單盤(磨盤Φ250 mm，拋盤Φ220 mm,，研磨盤Φ220 mm)雙速500/1000轉(zhuǎn),，帶自動拋光器摸頭PD-1。

單盤雙速,集預磨/拋光/研磨于一機,只須更換磨拋盤就能進行預磨,、拋光或研磨,。可安裝PD-1拋光器進行自動拋光,一機多用,。

切割截面100×100mm,，2800轉(zhuǎn)，切割片Φ350×Φ32×2.5mm,。