等離子清洗機(jī)（plasma cleaner）也叫等離子表面處理儀,，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果,。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài),，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài),。等離子體的“活性”組分包括：離子,、電子、活性基團(tuán),、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）,、光子等。等離子清洗機(jī)就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面,，從而實(shí)現(xiàn)清潔等目的,。

等離子清洗原理：　
等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài),，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài),、氣態(tài)三種狀態(tài)存在,，但在一些特殊的情況下有第四中狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質(zhì),。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì)：處于高速運(yùn)動狀態(tài)的電子,；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子,、原子團(tuán)（自由基）,；離子化的原子、分子,；未反應(yīng)的分子,、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài),。

等離子體基礎(chǔ)知識：　　
等離子體和固體,、液體或氣體一樣，是物質(zhì)的一種狀態(tài),，也叫做物質(zhì)的第四態(tài),。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的"活性"組分包括：離子,、電子,、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）,、光子等,。等離子體表面處理儀就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔,、改性,、光刻膠灰化等目的。

等離子體特殊性質(zhì)的具體應(yīng)用：

　　等離子清洗/刻蝕機(jī)產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個電極形成電場,，用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度,，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動距離也愈來愈長,，受電場作用,，它們發(fā)生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高,，其能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵,，在任何暴露的表面引起化學(xué)反應(yīng)，不同氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性能,，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性,，能氧化光刻膠反應(yīng)生成氣體,，從而達(dá)到清洗的效果；腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性,，這樣就能滿足刻蝕的需要,。利用等離子處理時會發(fā)出輝光，故稱之為輝光放電處理,?！?/p>

　　等離子體清洗的機(jī)理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的,。就反應(yīng)機(jī)理來看,，等離子體清洗通常包括以下過程：無機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；氣相物質(zhì)被吸附在固體表面,；被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子,；產(chǎn)物分子解析形成氣相；反應(yīng)殘余物脫離表面,。

　　等離子體清洗技術(shù)的大特點(diǎn)是不分處理對象的基材類型,，均可進(jìn)行處理，對金屬,、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料,，如聚丙烯,、聚脂、聚酰亞胺,、聚氯乙烷,、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,，并可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗,。

等離子體清洗還具有以下幾個特點(diǎn)：

         容易采用數(shù)控技術(shù)，自動化程度高,；具有高精度的控制裝置,，時間控制的精度很高；正確的等離子體清洗不會在表面產(chǎn)生損傷層,，表面質(zhì)量得到保證,；由于是在真空中進(jìn)行，不污染環(huán)境,，保證清洗表面不被二次污染,。