詳細介紹
儀器介紹
過去,,對分析儀器的冷卻常常采用自來水常開的方式,按10L/min計算,,每天工作8小時,,則年耗水量約為1440噸,然而這種冷卻方式極大的浪費了寶貴的水資源,,并且制冷效果差,,對于水質(zhì)較硬的地區(qū),“結垢"問題還會影響儀器的正常使用,,因此,,急需一種能循環(huán)地提供恒冷卻水的方式,節(jié)省水資源的同時也能達到良好的冷卻效果,。
我司研發(fā)的冷卻循環(huán)水機是一種能持續(xù)提供恒溫,、恒流、恒壓的冷卻水設備,。其先向機內(nèi)水箱注入一定量的水,,通過冷卻循環(huán)水機制冷系統(tǒng)將水冷卻,再由水泵以恒定的壓力和流量將低溫冷卻水送入需冷卻的設備,,冷凍水將熱量帶走后溫度升高再回流到水箱,,水箱中通過溫度反饋單元,持續(xù)的把溫度精準控制在設定的溫度,,從而達到持續(xù)的冷卻作用,。
應用領域
化學、生物領域:AAS,、ICP,、ICP-MS、核磁共振,、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀,、生物發(fā)酵罐、化學反應器(合成器)等,。
半導體,、材料領域:電鏡、X衍射,、X熒光,、分子束外延、ICP刻蝕,、化學沉積系統(tǒng),、原子沉積系統(tǒng)、脈沖激光沉積,、疲勞試驗機等
工業(yè)領域:各種激光器,、磁場,、分子泵、真空電子束焊,、擠壓機,、機床設備等
醫(yī)療領域:低磁場核磁共振、超導磁共振,、直線加速器,、CT、X光機等
激光領域:固體激光器,、激光刻蝕,、激光焊接、激光打標等,。
技術優(yōu)勢
T系列冷卻循環(huán)水機是我公司在SX系列冷卻循環(huán)水機的基礎上重新開發(fā)的產(chǎn)品,,在功能方面,增加了流量顯示功能,,超溫告警功能,,低水位告警功能,運行時間查詢功能,,制冷負載率查詢功能,,以及水位觀察窗口。在性能方面,,控溫精度能達到0.5℃以內(nèi),,噪音控制更是繼承了上一代產(chǎn)品的優(yōu)勢,遠安靜于國內(nèi)外同類產(chǎn)品,。
產(chǎn)品特點
1.微處理器芯片控制
2.溫度實時顯示,,操作直觀
3.內(nèi)、外部雙循環(huán)功能
4.連續(xù),、穩(wěn)定的工作能力
5.可選用配外接輸入信號,,由應用設備遠程啟動/停止水循環(huán)設備
6.進口靜音水泵,極低的運行噪聲
7不銹鋼換熱器,,不污染介質(zhì)
8.名廠壓縮機,性能更高壽命更長
9.壓力可調(diào)(T1905,、T2806*的功能)
10.可選配無氟制冷劑,、環(huán)保
11.結構精巧
擴展功能
1.合理的排水口設計,方便*地更新水箱中的水
2.*的水箱設計,,可隔離水中顆粒物,,減少它對泵和換熱器磨損
3.進/出水口高于液面,拔出水管水也不會流出,,便于連接和維護
4.良好的超壓保護設計,,當負載水路壓力過大時,,儀器將自動打開旁路來減小壓力,達到一個壓力平衡的狀態(tài),,從而避免由于壓力過大而損害儀器設備(T1905,、T2806*的功能)
5.可選用配外接輸入信號,由應用設備遠程啟動/停止水循環(huán)設備
6.可選配外接遠程溫度傳感器,,能夠直接反映出所控制設備中相應的溫度,,更準確的幫助您掌握儀器設備的運行狀態(tài)
7.可選配R232接口來實現(xiàn)電腦控制、記錄,、保存溫度圖譜和設備等功能
8.可選配水路水質(zhì)保護裝置:過濾器,、紫外燈等
技術參數(shù)
儀器規(guī)格 | 控溫范圍 | 溫度穩(wěn)定度 | 制冷能力 | 泵流量 | 控溫方式 | 水箱容量 | zui大功率 |
T1209 | 10℃-室溫 | 0.5℃ | 1200w | 9L/min@1bar | 電子控溫 | 8L | 800w |
T1909 | 10℃-室溫 | 0.5℃ | 1900w | 9L/min@1bar | 電子控溫 | 8L | 900w |
T1909A | 10℃-室溫 | 0.5℃ | 1900w | 9L/min@2bar | 電子控溫 | 8L | 900w |
T1905 | 10℃-室溫 | 0.5℃ | 1900w | 5L/min@2-4bar | 電子控溫 | 8L | 900w |
T2809 | 10℃-室溫 | 0.5℃ | 2800w | 9L/min@1bar | 電子控溫 | 16L | 1100w |
T2806 | 10℃-室溫 | 0.5℃ | 2800w | 6L/min@2-6bar | 電子控溫 | 16L | 1200w |
T5815 | 10℃-室溫 | 0.5℃ | 5800w | 電子控溫 | 40L | 2100w | |
T6615 | 10℃-室溫 | 0.5℃ | 6600w | 電子控溫 | 60L | 2700w |