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SMC新推出一款化學(xué)液用氣控閥 JLV系列，該產(chǎn)品通過創(chuàng)新結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，大大降低閥關(guān)閉時(shí)的沖擊,，從而有效的抑制了微粒的產(chǎn)生,。閥主體采用高純PFA材質(zhì)，對(duì)應(yīng)高工作壓力及背壓,，兼具結(jié)構(gòu)緊湊,、省空間的特點(diǎn)，適用于涂膠顯影,、CMP,、清洗、濕法蝕刻,、藥液供給等Wet相關(guān)各個(gè)工藝環(huán)節(jié),，特別是28nm以下對(duì)微粒要求更加嚴(yán)格的工藝制程。

SMC氣控閥 JLV系列應(yīng)用案例：蝕刻裝置

CMP

涂膠顯影機(jī)

清洗機(jī)

抑制微塵的產(chǎn)生

優(yōu)化先導(dǎo)排氣,，降低閥關(guān)閉時(shí)的沖擊力,。

采用耐化學(xué)品性的材質(zhì)

減少安裝空間

對(duì)應(yīng)高壓／高背壓

使用壓力、背壓范圍擴(kuò)大,，共通化,。使用壓力：0～0.5MPa(與以前產(chǎn)品相比最大提高66%）※主體class3的場(chǎng)合背壓：0～0.5MPa(與以前產(chǎn)品相比最大提高150%）