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熱膨脹儀
  • 熱膨脹儀

貨物所在地:上海上海市

更新時間:2024-12-18 21:00:07

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熱膨脹儀 L75 / High PressureLinseis研發(fā)的單桿-、雙桿-,、差示-,、四桿-、淬火-( 熱膨脹相變儀),、激光和光學法膨脹儀等多種設(shè)備,,測量溫度范圍從-180°C—2800°C,,分辨率高達0.3nm,。 Linseis多年的研究經(jīng)驗(始于1953年),Linseis的具有的優(yōu)異性能,。

熱膨脹儀大大拓展了熱分析的應(yīng)用范圍,。該系統(tǒng)可以在溫度從室溫到1100/1400/1800 ℃,并在該壓力達到100/150 bar的環(huán)境中測量的材料的膨脹(長度的改變),。此設(shè)備是目前世界上*可用的高壓膨脹儀,。可選用水蒸氣發(fā)生裝置和多氣體控制系統(tǒng),。

     為了測量數(shù)據(jù)和拓寬測量范圍,,可以使用QMS和FTIR對逸出的氣體進行分析。耦合后的功能超過單獨部件的總和,。用戶通過LINSEIS耦合技術(shù)和綜合硬件和軟件,,采用不同數(shù)據(jù)庫對數(shù)據(jù)進行分析以得到*的結(jié)果。

 

型號DIL L75 HP / 1  DIL L75 HP/2  
溫度范圍*RT -- 1100°CRT -- 1400/1800°C
zui大壓力zui大150 bar zui大100 bar
真空10E-4 mbar10E-4 mbar
樣品支架熔融石英 < 1100°C熔融石英 < 1100°C
 Al2O3 < 1750°CAl2O3 < 1750°C
zui大樣品長度50 mm 50 mm 
樣品直徑7/12/20 mm7/12/20 mm
可調(diào)樣品壓力zui大 1000 mNzui大 1000 mN
測量范圍500 / 5000 µm500 / 5000 µm
分辨率0.125 nm 0.125 nm
可選裝置 壓力可控混氣系統(tǒng) (MFC´s)  壓力可控混氣系統(tǒng) (MFC´s)  
氣氛 惰性, 氧化性**, 還原性, 真空 惰性, 氧化性**, 還原性, 真空

* 取決于不同爐體  

** 不適用于石墨加熱爐 

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