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低溫恒溫循環(huán)器的應(yīng)用領(lǐng)域：

1.材料領(lǐng)域：電鏡、X射線衍射,、X熒光,、真空濺射電鍍、真空鍍膜機(jī),、ICP刻蝕,、各種半導(dǎo)體設(shè)備、疲勞試驗(yàn)機(jī),、化學(xué)沉積系統(tǒng),、原子沉積系統(tǒng)等。

2.物化領(lǐng)域：激光器,、磁場,、各種分子泵,、擴(kuò)散泵、離子泵以及包括材料領(lǐng)域,。使用的各種需水冷設(shè)備,。

3. 生化領(lǐng)域：旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、阿貝折光儀,、旋光儀,、原子吸收、ICP-MS ,、ICP,、核磁共振、CCD,、生物發(fā)酵罐,、化學(xué)反應(yīng)器（合成器）等。

4. 對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工,、熔接機(jī)的發(fā)熱部分,、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置,、二氧化碳激光加工機(jī)等,。

5.醫(yī)療領(lǐng)域：超導(dǎo)磁共振、直線加速器,、CT,、低磁場核磁共振、X光機(jī),、微波治療機(jī),、醫(yī)用冷帽、降溫毯等,。

6.對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載,、印刷機(jī)、自動夾座安裝裝置,、噴涂裝置,、離子鍍裝置、蝕刻裝置,、單晶片處理裝置,、切片機(jī)、包裝機(jī),、顯影劑的溫度管理,、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。