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激光直寫技術的研究與進展

閱讀:867      發(fā)布時間:2023-3-6
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  激光直寫技術是一種無需掩模,、適用面廣、性價比高的微納米加工手段,,目前已經(jīng)廣泛應用于微機電系統(tǒng),、掩模板、微流控,、微納光學器件,、超材料等微納米制造領域,。隨著納米技術的飛速發(fā)展,器件和結構變得越來越小,,面對的場景也越來越復雜多樣,。
  
  為了滿足這些新的發(fā)展需求,新一代激光直寫系統(tǒng)采用了激光與物質(zhì)非線性相互作用的新原理,,在技術上實現(xiàn)了兩個突破:
  
  1,、突破了衍射極限的限制,實現(xiàn)了超衍射加工,;
  
  2,、打破了受體材料僅能使用有機光刻膠的限制,實現(xiàn)了在各種材料也包括有機光刻膠上的激光直寫,。
  
  這些突破賦予了激光直寫技術許多新的內(nèi)涵,,極大地拓寬了激光直寫的應用場景。
  
  大量的實驗研究已經(jīng)證明了激光直寫系統(tǒng)的可靠性,,同時證明了此系統(tǒng)可利用多樣化的加工反應機理,,如氧化、切削,、凝固,、熔化、光化學反應,、引導自組裝等,。
  
  事實上,千萬種材料,,每一種都可以和新一代激光直寫結合,寫出自己的故事,,加之不同的相互作用原理,,為使用激光直寫探索前沿提供了許多新的可能和一個巨大的舞臺。
  
  工欲善其事,,必先利其器,,新一代激光加工系統(tǒng)已經(jīng)開始服務于多個領域的研究機構并參與到其前沿研究課題中,為研究人員在探索新的微納米效應,,尋找獨特的制造技術,、構建新型納米器件等領域提供了獨特、靈活的制造加工技術手段,。

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