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　　一、光刻機(lithography)又名：掩模對準(zhǔn)曝光機,，曝光系統(tǒng),，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備,。它采用類似照片沖印的技術(shù),，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
 

　　二,、組成步驟：利用模版去除晶圓表面的保護膜,、將晶圓浸泡在腐化劑中，失去保護膜的部分被腐蝕掉后形成電路,、
 

　　用純水洗凈殘留在晶圓表面的雜質(zhì),、模版和晶圓大小一樣,，模版不動、模版和集成電路大小一樣,，模版隨曝光機聚焦部分移動,。
 

　　三、曝光機是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,，制造和維護需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎(chǔ),，世界上只有少數(shù)廠家掌握。因此曝光機價格昂貴,，通常在3千萬至5億美元,。
 

　　四、投影式光刻機可分為步進(jìn)投影和掃描投影光刻機兩種,，分辨率通常七納米至幾微米之間,，光刻機號稱精密的儀器，世界上已有1.2億美金一臺的光刻機,。光刻機堪稱現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花,，其制造難度之大，只有少數(shù)幾家公司能夠制造,。國外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來自德國),，日本Nikon(intel曾經(jīng)購買過Nikon的光刻機)和日本Canon三品牌為主。
 

　　五,、工件臺為光刻機的一個關(guān)鍵,，由掩模樣片整體運動臺(XY)、掩模樣片相對運動臺(XY),、轉(zhuǎn)動臺,、樣片調(diào)平機構(gòu)、樣片調(diào)焦機構(gòu),、承片臺,、掩模夾、抽拉掩模臺組成,。樣片調(diào)焦機構(gòu)由調(diào)焦手輪,、杠桿機構(gòu)和上升直線導(dǎo)軌等組成，調(diào)平上升過程初步調(diào)焦,，調(diào)平完成鎖緊球氣浮后,，樣片和掩模之間會產(chǎn)生一定的間隙，因此必須進(jìn)行微調(diào)焦,。另一方面,，調(diào)平完成進(jìn)行對準(zhǔn)，必須分離一定的對準(zhǔn)間隙,，也需要進(jìn)行微調(diào)焦,。