臺(tái)式高性能多功能PVD薄膜制備系列—nanoPVD

   基于多年大型薄膜制備系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與研發(fā)所積累的豐富經(jīng)驗(yàn),，Moorfield Nanotechnology深入了解了劍橋大學(xué),、諾森比亞大學(xué)、帝國(guó)理工學(xué)院,、巴斯大學(xué),、埃克塞大學(xué),、倫敦瑪麗大學(xué)等多所著名大學(xué)科研團(tuán)隊(duì)的具體需求,，經(jīng)過不懈努力推出了臺(tái)式高性能多功能PVD薄膜制備系列—nanoPVD產(chǎn)品。該系列產(chǎn)品是為高水平學(xué)術(shù)研究研發(fā)的小型物理氣相沉積設(shè)備,。推出之后短短幾年時(shí)間已經(jīng)在歐洲銷售了數(shù)十臺(tái),，該系列產(chǎn)品包含了磁控濺射、金屬/機(jī)物熱蒸發(fā)系統(tǒng),。這些設(shè)備雖然體積小巧,，但是性能越，能夠快速實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量納米薄膜,、異質(zhì)結(jié)的制備,，通常在大型設(shè)備中才有的共濺射和反應(yīng)濺射功能也可以在該系列產(chǎn)品上實(shí)現(xiàn)。準(zhǔn)確的有機(jī)物沉積系統(tǒng)更是該系列的大色,。便捷的操作,、智能的控制,、高效的制備效率讓您的學(xué)術(shù)研究進(jìn)入快車道。

設(shè)備型號(hào)

臺(tái)式高質(zhì)量多功能薄膜磁控濺射系統(tǒng) - nanoPVD S10A

    nanoPVD S10A是Moorfield Nanotechnology傾力打造的款高度集成化智能化的臺(tái)式磁控濺射系統(tǒng),。該系統(tǒng)雖然體積小巧，但是功能出色,、配置齊全,。該型號(hào)的推出是為了解決傳統(tǒng)臺(tái)式設(shè)備功能簡(jiǎn)單不能滿足前沿學(xué)術(shù)研究的問題。劍橋大學(xué),、諾森比亞大學(xué),、帝國(guó)理工學(xué)院等用戶都對(duì)這款臺(tái)式設(shè)備給予了很高的評(píng)價(jià)。

    nanoPVD S10A多可安裝3個(gè)水冷式濺射源,，可實(shí)現(xiàn)高功率持續(xù)運(yùn)行,，靶材尺寸與大型系統(tǒng)樣是行業(yè)通用尺寸。系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)兩源共濺射方案,，可以實(shí)現(xiàn)反應(yīng)濺射方案,，多可同時(shí)控制3路氣體。系統(tǒng)具有分子泵,，可快速達(dá)到5*10-7mbar高真空,。腔體取放樣品非常方便，樣品臺(tái)大尺寸4英寸,，系統(tǒng)有智能化的觸屏控制系統(tǒng),，采用完備的安全設(shè)計(jì)方案。

    nanoPVD S10A可用于制備高質(zhì)量的金屬薄膜,、半導(dǎo)體薄膜,、介電、緣材料薄膜以及復(fù)合薄膜,、多層異質(zhì)結(jié)等,。

臺(tái)式超大面積高質(zhì)量薄膜磁控濺射系統(tǒng) - nanoPVD S10A-WA

    Moorfield Nanotechnology根據(jù)客戶超大樣品的需求推出了nanoPVD-S10A-WA超大面積高質(zhì)量薄膜磁控濺射系統(tǒng),。該型號(hào)是nanoPVD-S10A的拓展型號(hào),，用于制備超大尺寸的樣品，大樣品可達(dá)8英寸,。

    該系統(tǒng)基于nanoPVD-S10A的成熟設(shè)計(jì)和越性能,，在相同腔體的設(shè)計(jì)基礎(chǔ)上對(duì)nanoPVD-S10A進(jìn)行了調(diào)整，使濺射源正對(duì)襯底,。結(jié)合襯底旋轉(zhuǎn),，即使在生長(zhǎng)8英寸的超大樣品時(shí)也可獲得很高的樣品均勻度。與nanoPVD-S10A樣,，濺射源采用水冷式設(shè)計(jì),，可以持續(xù)高功率運(yùn)行，可實(shí)現(xiàn)共濺射等功能,。nanoPVD-S10-WA是款接受半定制化的設(shè)備,，如有殊需求請(qǐng)聯(lián)系我們進(jìn)行詳細(xì)討論。

臺(tái)式高質(zhì)量金屬\有機(jī)物熱蒸發(fā)系統(tǒng) - nanoPVD T15A

    nanoPVD T15A是Moorfield Nanotechnology推出的 nanoPVD系列中新的型號(hào),，高腔體設(shè)計(jì)方案為熱蒸發(fā)而設(shè)計(jì)，確保薄膜均勻度,，大可生長(zhǎng)4英寸的薄膜樣品,。近年時(shí)間在英國(guó)安裝就有十幾套，劍橋大學(xué),、巴斯大學(xué),、埃克塞大學(xué),、倫敦瑪麗大學(xué)等都是該設(shè)備的用戶,。

    系統(tǒng)可以配備低溫蒸發(fā)(LTE)和標(biāo)準(zhǔn)電阻蒸發(fā)源，分別用于沉積有機(jī)物和金屬薄膜,。低熱容有機(jī)物蒸發(fā)源具有高精度的控制電源,，可以準(zhǔn)確的控制蒸發(fā)條件制備高質(zhì)量的有機(jī)物薄膜。金屬源采用盒式屏蔽模式,，可以有效的減少交叉污染等問題,。智能的控制系統(tǒng)和靈活的配置方案使PVD-T15A非常適合應(yīng)用于材料研究域。

    nanoPVD T15A可用于制備高質(zhì)量的金屬,、有機(jī)物薄膜和異質(zhì)結(jié)等材料,?？蓱?yīng)用于傳統(tǒng)材料科學(xué)和新型的OLED（有機(jī)發(fā)光二管）、OPV（有機(jī)光伏材料）和 OFET（有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)管）域,。

發(fā)表文章

A high speed PE-ALD ZnO Schottky diode rectifier with low interface-state density

Jin, J., et al. Journal of Physics D: Applied Physics 2018 DOI: 10.1086/1361-6463/aaa4a2

作者報(bào)道了用用氧化鋅和PtOx肖基接觸界面制備高速肖基二管整流器的方法,。為此,，作者使用PE-ALD沉積ZnO，使用Moorfield nanoPVD-S10A系統(tǒng)通過射頻濺射制備金屬層和PtOx接觸層,，包括反應(yīng)濺射模式(通過含氧氣氛沉積Pt),。所制備的器件具有適用于噪聲敏感和高頻電子器件的性能。

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