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隨著半導(dǎo)體器件,、量子器件和材料科學(xué)等域的蓬勃發(fā)展,,器件的尺寸變得越來越小,、結(jié)構(gòu)越來越復(fù)雜,與之相應(yīng)的微納尺度下的加工精度要求越來越高,。聚焦離子束(FIB)系統(tǒng)已成為相關(guān)域的研究中*的關(guān)鍵設(shè)備,。截止到目前,可商購的FIB系統(tǒng)大都使用液態(tài)金屬或惰性氣體作為離子源,,但是采用上述離子源的FIB系統(tǒng)在加工精度,,加工速度,維護難度和使用費用等方面很難達到令人滿意的平衡,,因此兩者并非FIB系統(tǒng)的理想離子源選擇,。
為了解決商用FIB系統(tǒng)中存在的上述問題,2020年,,美國zeroK NanoTech公司運用曾獲諾貝爾獎的激光冷卻技術(shù),,推出了新代高精度低溫銫離子源FIB系統(tǒng)——FIB: ZERO。該系統(tǒng)采用低溫銫離子源(Cs+ LoTIS),,在很大程度上減少了離子的隨機運動,,使FIB:ZERO中的離子束斑與傳統(tǒng)離子源產(chǎn)生的束斑相比具有更高的亮度,更小的尺寸,,和更低的能量散失。因此,,可以獲得更清晰的成像,、更高的加工精度和更少的樣品損傷。同時,,也顯著降低了維護難度和使用成本,。近日,,Quantum Design中國正式引進新代高精度低溫銫離子源FIB系統(tǒng),,希望能夠幫助我國科學(xué)家在半導(dǎo)體器件、量子器件和材料科學(xué)等域有更深入的研究,。
新品亮點
1. 更清晰的成像效果,,更大的成像景深
2. 更明顯的對比度
3. 更高的加工精度(相同時間)
4. 更好的加工均勻性(相同時間)
5. 對樣品小的損傷范圍
Stopping and Range of Ions in Matter(SRIM)模擬不同離子源產(chǎn)生的離子束在硅中的影響范圍
傳統(tǒng)氣體離子源 | 傳統(tǒng)液態(tài)金屬離子源 | 新代低溫銫離子源 |
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