隨著半導(dǎo)體器件,、量子器件和材料科學(xué)等域的蓬勃發(fā)展,，器件的尺寸變得越來越小,、結(jié)構(gòu)越來越復(fù)雜，與之相應(yīng)的微納尺度下的加工精度要求越來越高,。聚焦離子束（FIB）系統(tǒng)已成為相關(guān)域的研究中*的關(guān)鍵設(shè)備,。截止到目前，可商購的FIB系統(tǒng)大都使用液態(tài)金屬或惰性氣體作為離子源,，但是采用上述離子源的FIB系統(tǒng)在加工精度,，加工速度，維護難度和使用費用等方面很難達到令人滿意的平衡,，因此兩者并非FIB系統(tǒng)的理想離子源選擇,。

為了解決商用FIB系統(tǒng)中存在的上述問題，2020年,，美國zeroK NanoTech公司運用曾獲諾貝爾獎的激光冷卻技術(shù),，推出了新代高精度低溫銫離子源FIB系統(tǒng)——FIB: ZERO。該系統(tǒng)采用低溫銫離子源（Cs+ LoTIS）,，在很大程度上減少了離子的隨機運動,，使FIB：ZERO中的離子束斑與傳統(tǒng)離子源產(chǎn)生的束斑相比具有更高的亮度，更小的尺寸,，和更低的能量散失。因此,，可以獲得更清晰的成像,、更高的加工精度和更少的樣品損傷。同時,，也顯著降低了維護難度和使用成本,。近日,，Quantum Design中國正式引進新代高精度低溫銫離子源FIB系統(tǒng),，希望能夠幫助我國科學(xué)家在半導(dǎo)體器件、量子器件和材料科學(xué)等域有更深入的研究,。

新品亮點

1. 更清晰的成像效果,，更大的成像景深

2. 更明顯的對比度

3.  更高的加工精度（相同時間）

4. 更好的加工均勻性（相同時間）

5. 對樣品小的損傷范圍

 Stopping and Range of Ions in Matter（SRIM）模擬不同離子源產(chǎn)生的離子束在硅中的影響范圍

相關(guān)產(chǎn)品

1,、新代高精度低溫銫離子源FIB系統(tǒng)