多功能試樣表面處理機(jī)是一種用于掃描電鏡和電子探針的樣品制備設(shè)備,，可用于真空碳蒸鍍、真空鍍膜和離子濺射,，在高純氬氣保護(hù)下也可用于各種離子處理,。本設(shè)備處理后的樣品既可用于樣品的外觀觀察，也可用于成分分析,，尤其是成分的定量分析,。本儀器配備機(jī)械泵和分子泵，分子泵系統(tǒng)特別適用于對真空度要求高,、真空環(huán)境好的用戶,。
多功能試樣表面處理機(jī)將硅片放入真空反應(yīng)系統(tǒng)，通入少量氧氣,，加1500V高壓,，高頻信號發(fā)生器產(chǎn)生高頻信號，從而形成強(qiáng)電磁場石英管中,，氧氣被電離,，形成由氧離子、活性氧原子,、氧分子和電子混合而成的等離子體輝光柱,。活性氧（活性原子氧）能迅速將聚酰亞胺薄膜氧化成揮發(fā)性氣體,，通過機(jī)械泵抽走,，從而去除硅片上的聚酰亞胺薄膜。等離子脫膠的優(yōu)點(diǎn)是脫膠操作簡單,，脫膠效率高,，表面清潔光滑，無劃痕,，成本低,，環(huán)保。
在并聯(lián)電極反應(yīng)器中,，反應(yīng)離子刻蝕室采用非對稱設(shè)計(jì),，陰極面積小,，陽極面積大，被蝕刻物放置在面積較小的電極上,。在射頻電源產(chǎn)生的熱運(yùn)動下,，帶負(fù)電的自由電子質(zhì)量小，運(yùn)動速度快,，迅速到達(dá)陰極,；正離子由于質(zhì)量大，速度慢,，不能同時(shí)到達(dá)陰極,，從而在陰極附近形成帶負(fù)電的鞘層。在鞘層的加速作用下,，正離子垂直轟擊硅表面,，加速硅表面的化學(xué)反應(yīng)和反應(yīng)產(chǎn)物的分離，產(chǎn)生很高的刻蝕速率,。離子轟擊也可以實(shí)現(xiàn)各向異性刻蝕,，與等離子脫脂、等離子刻蝕相同,，區(qū)別在于反應(yīng)氣體的種類和等離子體的激發(fā)方式,。
對于制膜，多功能試樣表面處理機(jī)可以設(shè)置三種模式：
1,、一種模式專門用于蒸鍍
本儀器可同時(shí)蒸發(fā)兩種物料,，最高溫度可達(dá)1800℃
鎢絲加熱
2、碳蒸發(fā)鍍膜方式
該儀器包括兩組碳棒
3,、DC等離子濺射模式儀器含金靶(38mmdiax0.2mmt)
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