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熱噴涂鍍膜設(shè)備都有哪些得天獨(dú)厚的優(yōu)勢?

閱讀:1455      發(fā)布時間:2021-7-26
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  熱噴涂鍍膜設(shè)備濺射鍍膜是將基體和靶材置于真空腔內(nèi),,用電子或高能激光轟擊靶材,,使表面成分以原子團(tuán)或離子的形式濺射出來,沉積在表面基板,,通過成膜工藝形成薄膜,。粉末壓制燒結(jié)法和粉末熱等靜壓法常用于小尺寸平面靶材的生產(chǎn)。前者制作的靶材純度較低,,而后者制作工藝復(fù)雜,,特別是在合金靶材的生產(chǎn)中,成分不*均勻,。
  靶材的大尺寸和高利用率是涂層領(lǐng)域的新趨勢,,熱噴涂鍍膜設(shè)備等離子噴涂的諸多特點(diǎn)顯示出其在生產(chǎn)大尺寸、高利用率靶材方面的*優(yōu)勢,。
  1,、等離子噴涂火焰溫度高,熱量集中,,幾乎可以熔化所有高熔點(diǎn)粉末材料,,可根據(jù)工件表面性能要求制備各種性能的涂層;
  2,、結(jié)果表明,,高速等離子射流可使粉末獲得更大的動能和更高的溫度,涂層與基體的結(jié)合強(qiáng)度高,;
  3,、為近凈形制備方法,可節(jié)省材料,,特別適用于貴金屬涂層和靶材的制備,;
  4、通過真空密封,、還原氣體和惰性氣體保護(hù),,可獲得含氧量低、雜質(zhì)少的涂層,;
  5,、采用高能等離子噴涂設(shè)備,,粉末沉積速率高,沉積速率快??,,可獲得厚涂層,,是制備濺射靶材的重要保證。
  以熱噴涂管靶材為例,,靶材微觀結(jié)構(gòu)為圓餅狀扁平細(xì)晶粒,,晶粒取向平行于旋轉(zhuǎn)軸方向。靶材中存在大量微米級孔洞,,靶材整體孔隙率在5%~15%之間,。多孔結(jié)構(gòu)易吸附雜質(zhì)和水分,影響濺射過程中高真空的快速獲得和真空度的穩(wěn)定性,,濺射過程中靶材濺射表面的高溫使顆粒松散滴,,污染基材表面,影響涂層質(zhì)量和涂層產(chǎn)品的合格率,。
  目前,,熱噴涂鍍膜設(shè)備激光熔覆是解決等離子濺射靶材密度差問題的主要方法。當(dāng)然,,隨著新型噴涂設(shè)備的引進(jìn),,涂層的致密性也越來越好,。另外,,如果在大氣環(huán)境中噴涂靶材,靶材表面與空氣中的O2,、N2等氣體接觸時會產(chǎn)生大量的氧化物和氮化物雜質(zhì),。即使是真空等離子噴涂技術(shù)也不能*避免合金靶材中氧化物和氮化物的產(chǎn)生。因此,,濺射靶材表面的吸附氣體必須在濺射前通過隔離的前級泵去除,。

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