高真空蒸發(fā)鍍膜儀采用鎢絲籃作為蒸發(fā)源，蒸發(fā)源上覆蓋有高純氧化鋁坩堝,，樣品臺與蒸發(fā)源之間的距離可調(diào),。該儀器具有高精度的溫度控制系統(tǒng)，并采用循環(huán)加熱的方法來穩(wěn)定地蒸發(fā)金屬和某些有機物質(zhì),。高純度石英腔用作真空腔,，涂層過程*可見。該儀器配有雙極旋轉(zhuǎn)葉片真空泵,，可以快速達(dá)到1.0E-1Pa的真空度,，可以滿足大多數(shù)蒸發(fā)鍍膜實驗所需的真空環(huán)境。它適用于大多數(shù)金屬和某些有機材料薄膜的蒸發(fā)和涂層,，結(jié)構(gòu)緊湊,，體積小巧，是一種經(jīng)濟高效的實驗室鍍膜設(shè)備,。
1,、電流和電壓檢測器以及先進(jìn)的反饋控制技術(shù)使鍍碳過程穩(wěn)定，高效,。
2,、脈沖和連續(xù)模式可以隨意切換。
3,、提供“手動”和“自動”兩種模式,。在“手動”模式下，可以調(diào)節(jié)電壓和時間旋鈕,，以控制碳電鍍過程,。在“自動”模式下，客戶只需要事先設(shè)置程序,，碳鍍層儀器將*按照您的指示執(zhí)行,。
高真空蒸發(fā)鍍膜儀真空鍍膜是將固體材料放置在真空室內(nèi)的方法。在真空條件下,，將固體材料加熱以蒸發(fā),，并且蒸發(fā)的原子或分子可以在容器壁上自由散布,。當(dāng)將一些經(jīng)過處理的基板材料放入其中時，蒸發(fā)的原子或分子將被吸附在基板上并逐漸形成薄膜,。真空鍍膜有兩種方法,，一種是蒸發(fā)，另一種是濺射,。用于制造薄膜的材料在真空中加熱和蒸發(fā),，以將其沉積在合適的表面上。
選擇高真空蒸發(fā)鍍膜儀的蒸發(fā)源的原理為：
1,、具有良好的熱穩(wěn)定性,，且無化學(xué)活性。當(dāng)達(dá)到蒸發(fā)溫度時,，加熱器本身的蒸氣壓必須足夠低,。
2、蒸發(fā)源的熔點高于被蒸發(fā)物質(zhì)的蒸發(fā)溫度,。加熱器必須具有足夠的熱容量。
3,、蒸發(fā)材料和蒸發(fā)源材料的相互熔化必須非常低,，并且不易形成合金。
4,、用于螺旋形蒸發(fā)源的材料需要與蒸發(fā)材料具有良好的滲透性并且具有大的表面張力,。
5、當(dāng)不易制成細(xì)絲時,，或當(dāng)蒸發(fā)材料與細(xì)絲蒸發(fā)源之間的表面張力較小時,，可以使用船形蒸發(fā)源。
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