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當(dāng)前位置：上海皓越真空設(shè)備有限公司> 供求商機> AHS-CVD系統(tǒng)
這款CVD系統(tǒng)集真空管式爐,，多通道氣路系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成,，可根據(jù)用戶需要設(shè)計生產(chǎn)（有雙溫區(qū),、三溫區(qū)、多溫區(qū)）,，可預(yù)抽真空（有高真空,、低真空），通多種氣氛（供氣系統(tǒng)有質(zhì)子流量器和浮子流量控制器）,。性能可靠,。控制電路選用模糊PID程控技術(shù),，具有控溫精度高,，溫沖幅度小，性能可靠,，簡單易操作等特點,。CVD生長系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜,、陶瓷基片導(dǎo)電率測試,、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)等實驗,。
| 高真空空管式爐 | 爐管尺寸： | 外徑Φ60×1000mm,、Φ80×1000mm |
| 極限溫度： | 1700 ℃ | |
| 工作溫度： | 800 -1600 ℃ | |
| 溫度控制器： | PID自動控制 晶閘管（可控硅）輸出功率， 50段可編程控制器 | |
| zui快升降溫速率： | 1400℃以下≤10℃/min,，1400℃到1600℃≤5℃/min | |
| 加熱區(qū)： | 500mm | |
| 恒溫區(qū)： | 250mm | |
| 溫度精度： | ±1 ℃ | |
| 電源： | 單相220V,交流50Hz | |
| 多通道流量計控制系統(tǒng) | 標(biāo)準(zhǔn)量程： | 100,，200 ，500,，1000SCCM,； （以氮氣標(biāo)定，除以上標(biāo)準(zhǔn)外量程可選） |
| 準(zhǔn)確度： | ±1.5% | |
| 工作壓差范圍： | 0.01～0.05 MPa | |
| zui大壓力： | 0.02MPa | |
| 接頭類型： | Φ6雙卡套不銹鋼接頭 | |
| 高真空系統(tǒng) | 泵體積流量N2: | 33 L/S |
| 壓縮比： | 10:11 | |
| 實驗真空值： | 10-5mbar | |
| 功率消耗： | 140W | |
| 啟動時間： | 2min | |
| 電源要求： | 185-265VAC |
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