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這款CVD系統(tǒng)集真空管式爐,，多通道氣路系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成,，可根據(jù)用戶需要設(shè)計生產(chǎn)（有雙溫區(qū)、三溫區(qū),、多溫區(qū)）,，可預(yù)抽真空（有高真空、低真空）,，通多種氣氛（供氣系統(tǒng)有質(zhì)子流量器和浮子流量控制器）,。性能可靠?？刂齐娐愤x用模糊PID程控技術(shù),，具有控溫精度高，溫沖幅度小,，性能可靠,，簡單易操作等特點(diǎn)。CVD真空管式爐

高溫真空管式爐價格介紹：
這款CVD系統(tǒng)集真空管式爐,，多通道氣路系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成,，可根據(jù)用戶需要設(shè)計生產(chǎn)（有雙溫區(qū)、三溫區(qū),、多溫區(qū)）,，可預(yù)抽真空（有高真空、低真空）,，通多種氣氛（供氣系統(tǒng)有質(zhì)子流量器和浮子流量控制器）,。性能可靠,。控制電路選用模糊PID程控技術(shù),，具有控溫精度高,，溫沖幅度小，性能可靠,，簡單易操作等特點(diǎn),。CVD生長系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜,、陶瓷基片導(dǎo)電率測試,、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)等實(shí)驗(yàn),。CVD真空管式爐CVD真空管式爐CVD真空管式爐

高真空管式爐	爐管尺寸	外徑Φ60×1000mm,Φ80×1000mm,Φ100×1000mm
	極限溫度	1700 ℃
	工作溫度	800 -1600 ℃
	溫度控制器	PID自動控制晶閘管（可控硅）輸出功率,， 50段可編程控制器
	zui快升降溫速率	1400℃以下≤10℃/min，1400℃到1600℃≤5℃/min
	加熱區(qū)	360mm
	恒溫區(qū)	150mm
	溫度精度	±1 ℃
	電源	單相220V,交流50Hz
多通道流量計控制系統(tǒng)	標(biāo)準(zhǔn)量程	100,，200 ,，500，1000SCCM,；（以氮?dú)鈽?biāo)定,，除以上標(biāo)準(zhǔn)外量程可選）
	準(zhǔn)確度	±1.5%
	工作壓差范圍	0.01～0.05 MPa
	zui大壓力	0.02MPa
	接頭類型	Φ6雙卡套不銹鋼接頭
高真空系統(tǒng)	泵體積流量N₂	33 L/S
	壓縮比	10:11
	實(shí)驗(yàn)真空值	6.7*10-3Pa
	功率消耗	140W
	啟動時間	2min
	電源要求：	185-265VAC

本公司可定制各種CVD系統(tǒng)。

上海皓越真空設(shè)備有限公司

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